|
Эта публикация цитируется в 1 научной статье (всего в 1 статье)
Физика полупроводниковых приборов
Влияние протонного облучения на свойства высоковольтных интегрированных 4$H$-SiC диодов Шоттки в рабочем диапазоне температур
А. А. Лебедевa, В. В. Козловскийb, М. Е. Левинштейнa, Д. А. Малевскийa, Г. А. Оганесянa a Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, 194021 Санкт-Петербург, Россия
b Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого, 195251 Санкт-Петербург, Россия
Аннотация:
Влияние протонного облучения (энергия протонов 15 МэВ) на параметры высоковольтных 4$H$-SiC интегрированных (JBS) диодов Шоттки впервые исследовано в диапазоне рабочих температур $T_i$ (23 и 175$^\circ$С). Блокирующее напряжение исследованных диодов, $U_b$ составляло 600 и 1700 В. Для приборов c $U_b$ = 600 В диапазон флюенсов $\Phi$ составлял 5$\cdot$10$^{13}$–1$\cdot$10$^{14}$см$^{-2}$; для приборов c $U_b$ = 1700 В величина $\Phi$ составила и 3$\cdot$10$^{13}$–6$\cdot$10$^{13}$см$^{-2}$. Увеличение температуры облучения приводит к заметному уменьшению влияния облучения на вольт-амперные характеристики диодов. Исследовано влияние отжига на вольт-амперные характеристики облученных приборов.
Ключевые слова:
карбид кремния, диоды Шоттки, протонное облучение, отжиг, вольт-амперные характеристики.
Поступила в редакцию: 21.12.2022 Исправленный вариант: 16.01.2023 Принята в печать: 16.01.2023
Образец цитирования:
А. А. Лебедев, В. В. Козловский, М. Е. Левинштейн, Д. А. Малевский, Г. А. Оганесян, “Влияние протонного облучения на свойства высоковольтных интегрированных 4$H$-SiC диодов Шоттки в рабочем диапазоне температур”, Физика и техника полупроводников, 57:1 (2023), 53–57
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/phts6833 https://www.mathnet.ru/rus/phts/v57/i1/p53
|
|