Физика и техника полупроводников
RUS  ENG    ЖУРНАЛЫ   ПЕРСОНАЛИИ   ОРГАНИЗАЦИИ   КОНФЕРЕНЦИИ   СЕМИНАРЫ   ВИДЕОТЕКА   ПАКЕТ AMSBIB  
Общая информация
Последний выпуск
Архив
Правила для авторов

Поиск публикаций
Поиск ссылок

RSS
Последний выпуск
Текущие выпуски
Архивные выпуски
Что такое RSS



Физика и техника полупроводников:
Год:
Том:
Выпуск:
Страница:
Найти






Персональный вход:
Логин:
Пароль:
Запомнить пароль
Войти
Забыли пароль?
Регистрация


Физика и техника полупроводников, 2022, том 56, выпуск 2, страницы 199–203
DOI: https://doi.org/10.21883/FTP.2022.02.51962.9666
(Mi phts6996)
 

Эта публикация цитируется в 1 научной статье (всего в 1 статье)

Электронные свойства полупроводников

Влияние наличия достаточно высокой концентрации фосфора на концентрационное распределение галлия в кремнии

М. К. Бахадирханов, Н. Ф. Зикриллаев, С. Б. Исамов, Х. С. Турекеев, С. А. Валиев

Ташкентский государственный технический университет, 100095 Ташкент, Узбекистан
Аннотация: Установлено, что в кремнии, предварительно легированном высокой концентрацией фосфора, при диффузии галлия происходит существенное увеличение растворимости галлия. Полученные результаты объясняются взаимодействием атомов галлия и фосфора, в результате которого формируются квазинейтральные молекулы [P$^+$Ga$^-$]. Предполагается, что образование таких квазинейтральных молекул [P$^+$Ga$^-$] стимулирует формирование бинарных элементарных ячеек Si$_2$GaP в решетке кремния. Показано, что достаточно большая концентрация таких элементарных ячеек может привести к существенному изменению электрофизических параметров кремния и к возможности получения нового материала на основе кремния.
Ключевые слова: кремний, легирование, фосфор, галлий, диффузия.
Поступила в редакцию: 09.04.2021
Исправленный вариант: 11.09.2021
Принята в печать: 20.09.2021
Реферативные базы данных:
Тип публикации: Статья
Образец цитирования: М. К. Бахадирханов, Н. Ф. Зикриллаев, С. Б. Исамов, Х. С. Турекеев, С. А. Валиев, “Влияние наличия достаточно высокой концентрации фосфора на концентрационное распределение галлия в кремнии”, Физика и техника полупроводников, 56:2 (2022), 199–203
Цитирование в формате AMSBIB
\RBibitem{BahZikIsa22}
\by М.~К.~Бахадирханов, Н.~Ф.~Зикриллаев, С.~Б.~Исамов, Х.~С.~Турекеев, С.~А.~Валиев
\paper Влияние наличия достаточно высокой концентрации фосфора на концентрационное распределение галлия в кремнии
\jour Физика и техника полупроводников
\yr 2022
\vol 56
\issue 2
\pages 199--203
\mathnet{http://mi.mathnet.ru/phts6996}
\crossref{https://doi.org/10.21883/FTP.2022.02.51962.9666}
\elib{https://elibrary.ru/item.asp?id=48320155}
Образцы ссылок на эту страницу:
  • https://www.mathnet.ru/rus/phts6996
  • https://www.mathnet.ru/rus/phts/v56/i2/p199
  • Эта публикация цитируется в следующих 1 статьяx:
    Citing articles in Google Scholar: Russian citations, English citations
    Related articles in Google Scholar: Russian articles, English articles
    Физика и техника полупроводников Физика и техника полупроводников
     
      Обратная связь:
     Пользовательское соглашение  Регистрация посетителей портала  Логотипы © Математический институт им. В. А. Стеклова РАН, 2025