|
Поверхность, границы раздела, тонкие пленки
Влияние кислорода при осаждении тонкой пленки оксида индия-олова методом магнетронного распыления для гетеропереходных солнечных элементов
А. Ф. Ивановab, Ф. С. Егоровb, Н. Д. Платоновa, В. Л. Матухинa, Е. И. Теруковcd a Казанский государственный энергетический университет, 420066 Казань, Россия
b ООО "Хевел", 429965 Новочебоксарск, Россия
c Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет «ЛЭТИ» им. В. И. Ульянова (Ленина)
d Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
Аннотация:
Проведено экспериментальное исследование оптоэлектронных свойств тонких пленок оксида индия и олова в зависимости от содержания кислорода в общем потоке газов при напылении данных пленок методом магнетронного распыления мишени на постоянном токе. Была исследована зависимость выходных параметров гетеропереходных тонкопленочных солнечных элементов в зависимости от парциального давления кислорода в вакуумной камере при осаждении слоя оксида индия и олова. Максимальное значение эффективности фотоэлектрического преобразования солнечного элемента достигнуто при парциальном давлении кислорода в вакуумной камере $\sim$6.5 Торр.
Ключевые слова:
гетеропереходный тонкопленочный солнечный элемент, оксид индия и олова, магнетронное распыление.
Поступила в редакцию: 27.09.2021 Исправленный вариант: 01.10.2021 Принята в печать: 01.10.2021
Образец цитирования:
А. Ф. Иванов, Ф. С. Егоров, Н. Д. Платонов, В. Л. Матухин, Е. И. Теруков, “Влияние кислорода при осаждении тонкой пленки оксида индия-олова методом магнетронного распыления для гетеропереходных солнечных элементов”, Физика и техника полупроводников, 56:3 (2022), 315–319
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/phts7016 https://www.mathnet.ru/rus/phts/v56/i3/p315
|
|