|
Эта публикация цитируется в 1 научной статье (всего в 1 статье)
Физика полупроводниковых приборов
Сравнительное исследование фотоэлементов на основе кремния, легированного никелем различными методами
К. А. Исмайловa, Н. Ф. Зикриллаевb, С. В. Ковешниковb, Е. Ж. Косбергеновa a Каракалпакский государственный университет, 230112 Нукус, Узбекистан
b Ташкентский государственный технический университет,
100095 Ташкент, Узбекистан
Аннотация:
Сравнивались параметры фотоэлементов на основе кремния, легированного примесными атомами никеля методами диффузии и при выращивании. Установлено, что фотоэлементы, легированные примесными атомами никеля при выращивании кремния, имеют улучшение параметров, сравнимое с полученным методом диффузионного легирования. Дополнительная термообработка при $T$ = 800$^\circ$C позволяет заметно улучшить основные параметры фотоэлементов.
Ключевые слова:
кремний, фотоэлемент, никель, термообработка, диффузия.
Образец цитирования:
К. А. Исмайлов, Н. Ф. Зикриллаев, С. В. Ковешников, Е. Ж. Косбергенов, “Сравнительное исследование фотоэлементов на основе кремния, легированного никелем различными методами”, Физика и техника полупроводников, 56:4 (2022), 438–440
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/phts7035 https://www.mathnet.ru/rus/phts/v56/i4/p438
|
|