Физика и техника полупроводников
RUS  ENG    ЖУРНАЛЫ   ПЕРСОНАЛИИ   ОРГАНИЗАЦИИ   КОНФЕРЕНЦИИ   СЕМИНАРЫ   ВИДЕОТЕКА   ПАКЕТ AMSBIB  
Общая информация
Последний выпуск
Архив
Правила для авторов

Поиск публикаций
Поиск ссылок

RSS
Последний выпуск
Текущие выпуски
Архивные выпуски
Что такое RSS



Физика и техника полупроводников:
Год:
Том:
Выпуск:
Страница:
Найти






Персональный вход:
Логин:
Пароль:
Запомнить пароль
Войти
Забыли пароль?
Регистрация


Физика и техника полупроводников, 2022, том 56, выпуск 6, страница 527 (Mi phts7050)  

Неэлектронные свойства полупроводников (атомная структура, диффузия)

The effect of liquid Silicon on the AlN crystal growth

A. N. Anisimova, I. D. Breeva, K. V. Likhacheva, O. P. Kazarovaa, S. S. Nagalyuka, P. G. Baranova, R. Hübnerb, G. V. Astakhovb, B. Ya. Bera, D. Yu. Kazantseva, M. P. Scheglova, E. N. Mokhova

a Ioffe Institute, 194021 St. Petersburg, Russia
b Institute of Ion Beam Physics and Materials Research, Helmholtz-Zentrum Dresden-Rossendorf (HZDR), Dresden, Germany
Аннотация: The question of why a high-quality bulk AlN crystal can be grown on a SiC seed, which is superior in a number of parameters to the same crystal grown on its own seed, remains open. We set ourselves the task of comprehensive analysis of the process of the formation of bulk AlN crystals on SiC using Raman spectroscopy, X-ray diffraction, energy-dispersive X-ray spectroscopy, secondary ion mass spectroscopy, and optical microscopy. We managed to detect silicon on the surface of the grown AlN сrystals and traces of silicon at the SiC/AlN phase boundary. In connection with this discovery, we consider a new model for the formation of high-quality bulk AlN crystal growth on SiC substrates through the formation of a layer of liquid silicon. The application of this model will facilitate the growth of large, high-quality AlN crystals.
Поступила в редакцию: 02.03.2022
Исправленный вариант: 25.03.2022
Принята в печать: 25.03.2022
Тип публикации: Статья
Язык публикации: английский
Образец цитирования: A. N. Anisimov, I. D. Breev, K. V. Likhachev, O. P. Kazarova, S. S. Nagalyuk, P. G. Baranov, R. Hübner, G. V. Astakhov, B. Ya. Ber, D. Yu. Kazantsev, M. P. Scheglov, E. N. Mokhov, “The effect of liquid Silicon on the AlN crystal growth”, Физика и техника полупроводников, 56:6 (2022), 527
Цитирование в формате AMSBIB
\RBibitem{AniBreLik22}
\by A.~N.~Anisimov, I.~D.~Breev, K.~V.~Likhachev, O.~P.~Kazarova, S.~S.~Nagalyuk, P.~G.~Baranov, R.~H\"ubner, G.~V.~Astakhov, B.~Ya.~Ber, D.~Yu.~Kazantsev, M.~P.~Scheglov, E.~N.~Mokhov
\paper The effect of liquid Silicon on the AlN crystal growth
\jour Физика и техника полупроводников
\yr 2022
\vol 56
\issue 6
\pages 527
\mathnet{http://mi.mathnet.ru/phts7050}
Образцы ссылок на эту страницу:
  • https://www.mathnet.ru/rus/phts7050
  • https://www.mathnet.ru/rus/phts/v56/i6/p527
  • Citing articles in Google Scholar: Russian citations, English citations
    Related articles in Google Scholar: Russian articles, English articles
    Физика и техника полупроводников Физика и техника полупроводников
     
      Обратная связь:
     Пользовательское соглашение  Регистрация посетителей портала  Логотипы © Математический институт им. В. А. Стеклова РАН, 2025