Физика и техника полупроводников
RUS  ENG    ЖУРНАЛЫ   ПЕРСОНАЛИИ   ОРГАНИЗАЦИИ   КОНФЕРЕНЦИИ   СЕМИНАРЫ   ВИДЕОТЕКА   ПАКЕТ AMSBIB  
Общая информация
Последний выпуск
Архив
Правила для авторов

Поиск публикаций
Поиск ссылок

RSS
Последний выпуск
Текущие выпуски
Архивные выпуски
Что такое RSS



Физика и техника полупроводников:
Год:
Том:
Выпуск:
Страница:
Найти






Персональный вход:
Логин:
Пароль:
Запомнить пароль
Войти
Забыли пароль?
Регистрация


Физика и техника полупроводников, 2022, том 56, выпуск 8, страницы 809–813
DOI: https://doi.org/10.21883/FTP.2022.08.53150.9891
(Mi phts7106)
 

Физика полупроводниковых приборов

Устойчивость к электронному облучению высоковольтных 4H-SiC диодов Шоттки в рабочем диапазоне температур

А. А. Лебедевa, В. В. Козловскийb, М. Е. Левинштейнa, Д. А. Малевскийa, Р. А. Кузьминa

a Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, 194021 Санкт-Петербург, Россия
b Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого, 195251 Санкт-Петербург, Россия
Аннотация: Впервые исследовано влияние облучения электронами с энергией 0.9 МэВ на параметры 4H-SiC диодов Шоттки с предельным блокирующим напряжением $U_b$ = 600 и 1700 В в диапазоне рабочих температур $T_i$ (23 и 175$^\circ$С). Диапазон флюенсов $\Phi$ составлял 1$\cdot$10$^{16}$-2$\cdot$10$^{16}$ см$^{-2}$ для приборов c $U_b$ = 600 В и 5$\cdot$10$^{15}$–1.5$\cdot$10$^{16}$$^{-2}$ для приборов c $U_b$ = 1700 В. Облучение при комнатной температуре значительно увеличивает дифференциальное сопротивление базы диодов. Облучение теми же дозами при $T_i$ = 175$^\circ$С – предельной рабочей температуре приборов практически не сказывается на параметрах вольтамперных характеристик. Тем не менее DLTS-спектры демонстрируют значительное увеличение концентрации глубоких уровней в верхней половине запрещенной зоны не только после облучения при комнатной температуре, но и после облучения при $T_i$ = 175$^\circ$С.
Ключевые слова: карбид кремния, диоды Шоттки, электронное облучение, вольт-амперные характеристики, DLTS-спектры.
Финансовая поддержка Номер гранта
Российский научный фонд 22-12-00003
Работа выполнена при частичной финансовой поддержке гранта РНФ № 22-12-00003.
Поступила в редакцию: 19.05.2022
Исправленный вариант: 30.05.2022
Принята в печать: 30.05.2022
Реферативные базы данных:
Тип публикации: Статья
Образец цитирования: А. А. Лебедев, В. В. Козловский, М. Е. Левинштейн, Д. А. Малевский, Р. А. Кузьмин, “Устойчивость к электронному облучению высоковольтных 4H-SiC диодов Шоттки в рабочем диапазоне температур”, Физика и техника полупроводников, 56:8 (2022), 809–813
Цитирование в формате AMSBIB
\RBibitem{LebKozLev22}
\by А.~А.~Лебедев, В.~В.~Козловский, М.~Е.~Левинштейн, Д.~А.~Малевский, Р.~А.~Кузьмин
\paper Устойчивость к электронному облучению высоковольтных 4\emph{H}-SiC диодов Шоттки в рабочем диапазоне температур
\jour Физика и техника полупроводников
\yr 2022
\vol 56
\issue 8
\pages 809--813
\mathnet{http://mi.mathnet.ru/phts7106}
\crossref{https://doi.org/10.21883/FTP.2022.08.53150.9891}
\elib{https://elibrary.ru/item.asp?id=49223540}
Образцы ссылок на эту страницу:
  • https://www.mathnet.ru/rus/phts7106
  • https://www.mathnet.ru/rus/phts/v56/i8/p809
  • Citing articles in Google Scholar: Russian citations, English citations
    Related articles in Google Scholar: Russian articles, English articles
    Физика и техника полупроводников Физика и техника полупроводников
     
      Обратная связь:
     Пользовательское соглашение  Регистрация посетителей портала  Логотипы © Математический институт им. В. А. Стеклова РАН, 2025