|
Физика полупроводниковых приборов
Устойчивость к электронному облучению высоковольтных 4H-SiC диодов Шоттки в рабочем диапазоне температур
А. А. Лебедевa, В. В. Козловскийb, М. Е. Левинштейнa, Д. А. Малевскийa, Р. А. Кузьминa a Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, 194021 Санкт-Петербург, Россия
b Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого, 195251 Санкт-Петербург, Россия
Аннотация:
Впервые исследовано влияние облучения электронами с энергией 0.9 МэВ на параметры 4H-SiC диодов Шоттки с предельным блокирующим напряжением $U_b$ = 600 и 1700 В в диапазоне рабочих температур $T_i$ (23 и 175$^\circ$С). Диапазон флюенсов $\Phi$ составлял 1$\cdot$10$^{16}$-2$\cdot$10$^{16}$ см$^{-2}$ для приборов c $U_b$ = 600 В и 5$\cdot$10$^{15}$–1.5$\cdot$10$^{16}$ cм$^{-2}$ для приборов c $U_b$ = 1700 В. Облучение при комнатной температуре значительно увеличивает дифференциальное сопротивление базы диодов. Облучение теми же дозами при $T_i$ = 175$^\circ$С – предельной рабочей температуре приборов практически не сказывается на параметрах вольтамперных характеристик. Тем не менее DLTS-спектры демонстрируют значительное увеличение концентрации глубоких уровней в верхней половине запрещенной зоны не только после облучения при комнатной температуре, но и после облучения при $T_i$ = 175$^\circ$С.
Ключевые слова:
карбид кремния, диоды Шоттки, электронное облучение, вольт-амперные характеристики, DLTS-спектры.
Поступила в редакцию: 19.05.2022 Исправленный вариант: 30.05.2022 Принята в печать: 30.05.2022
Образец цитирования:
А. А. Лебедев, В. В. Козловский, М. Е. Левинштейн, Д. А. Малевский, Р. А. Кузьмин, “Устойчивость к электронному облучению высоковольтных 4H-SiC диодов Шоттки в рабочем диапазоне температур”, Физика и техника полупроводников, 56:8 (2022), 809–813
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/phts7106 https://www.mathnet.ru/rus/phts/v56/i8/p809
|
|