|
|
Физика и техника полупроводников, 2015, том 49, выпуск 2, страницы 266–270
(Mi phts7221)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 1 научной статье (всего в 1 статье)
Физика полупроводниковых приборов
Адаптация модели туннелирования в системе металл/CaF$_2$/Si(111) к использованию в симуляторах МДП-приборов
М. И. Векслерa, Ю. Ю. Илларионовab, С. Э. Тягиновab, T. Grasserb a Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
b TU Vienna, Institute for Microelectronics, Vienna 1040, Austria
Аннотация:
Предложен вариант упрощения модели туннельного переноса электронов через тонкий слой кристаллического фторида кальция в кремний (111) для последующей имплементации в симуляторы полупроводниковых приборов. Состоятельность подхода доказана сопоставлением данных моделирования по упрощенным формулам с точными расчетами и экспериментальными данными. Подход применим для вычисления туннельных токов в структурах с любыми кристаллическими диэлектриками на Si (111).
Поступила в редакцию: 20.05.2014 Принята в печать: 20.06.2014
Образец цитирования:
М. И. Векслер, Ю. Ю. Илларионов, С. Э. Тягинов, T. Grasser, “Адаптация модели туннелирования в системе металл/CaF$_2$/Si(111) к использованию в симуляторах МДП-приборов”, Физика и техника полупроводников, 49:2 (2015), 266–270; Semiconductors, 49:2 (2015), 259–263
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/phts7221 https://www.mathnet.ru/rus/phts/v49/i2/p266
|
|