|
|
Физика и техника полупроводников, 2015, том 49, выпуск 4, страницы 467–471
(Mi phts7258)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 8 научных статьях (всего в 8 статьях)
Поверхность, границы раздела, тонкие пленки
Исследование корреляционных параметров структуры поверхности неупорядоченных полупроводников с помощью методов двумерного DFA и средней взаимной информации
А. В. Алпатов, С. П. Вихров, Н. В. Рыбина Рязанский государственный радиотехнический университет
Аннотация:
Исследованы процессы самоорганизации структуры поверхности аморфного гидрогенизированного кремния с помощью методов флуктуационного анализа и средней взаимной информации по изображениям поверхности, полученным атомно-силовой микроскопией. Выявлено, что все структуры имеют корреляционный вектор и представляют собой гармонические составляющие с наложением шума. Показано, что с изменением технологических параметров получения пленок $a$-Si : H меняются корреляционные свойства их структуры. При увеличении температуры подложки уменьшается образование структурных неоднородностей, при этом увеличивается длина корреляционного вектора и повышается упорядоченность структуры. Показано, что методика, основанная на методе флуктуационного анализа, в сочетании с методом средней взаимной информации позволяет исследовать процессы самоорганизации в любых структурах на разных масштабах.
Поступила в редакцию: 01.09.2014 Принята в печать: 04.09.2014
Образец цитирования:
А. В. Алпатов, С. П. Вихров, Н. В. Рыбина, “Исследование корреляционных параметров структуры поверхности неупорядоченных полупроводников с помощью методов двумерного DFA и средней взаимной информации”, Физика и техника полупроводников, 49:4 (2015), 467–471; Semiconductors, 49:4 (2015), 456–460
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/phts7258 https://www.mathnet.ru/rus/phts/v49/i4/p467
|
|