Физика и техника полупроводников
RUS  ENG    ЖУРНАЛЫ   ПЕРСОНАЛИИ   ОРГАНИЗАЦИИ   КОНФЕРЕНЦИИ   СЕМИНАРЫ   ВИДЕОТЕКА   ПАКЕТ AMSBIB  
Общая информация
Последний выпуск
Архив
Правила для авторов

Поиск публикаций
Поиск ссылок

RSS
Последний выпуск
Текущие выпуски
Архивные выпуски
Что такое RSS



Физика и техника полупроводников:
Год:
Том:
Выпуск:
Страница:
Найти






Персональный вход:
Логин:
Пароль:
Запомнить пароль
Войти
Забыли пароль?
Регистрация


Физика и техника полупроводников, 2015, том 49, выпуск 5, страницы 577–583 (Mi phts7276)  

Эта публикация цитируется в 13 научных статьях (всего в 13 статьях)

Электронные свойства полупроводников

Влияние условий импульсного лазерного осаждения на структурные, электрические и оптические свойства тонких пленок VO$_2$

О. А. Новодворскийa, Л. С. Паршинаa, О. Д. Храмоваa, В. А. Михалевскийa, К. Д. Щербачевb, В. Я. Панченкоa

a Институт проблем лазерных и информационных технологий Российской академии наук, 140700 Шатура, Россия
b Национальный исследовательский технологический университет "МИСиС", г. Москва
Аннотация: Методом импульсного лазерного осаждения с сепарацией капель факела на монокристаллических подложках сапфира (0001) и кремния (111) получены тонкие пленки VO$_2$. Установлено влияние плотности энергии на мишени и давления кислорода на структурные и электрические свойства пленок. Все кристаллические пленки VO$_2$ демонстрируют переходы полупроводник-металл со значительным изменением электрического сопротивления от двух до пяти порядков величины. Исследовано пропускание пленок в диапазоне 200 – 800 нм и отражение в диапазоне 400–700 нм в интервале температур от 20 до 100$^\circ$C. Коэффициент пропускания пленок на длинах волн от 300 до 800 нм демонстрирует скачок пропускания и гистерезис при нагреве и охлаждении. Впервые установлено, что характер изменения пропускания пленок на разных длинах волн различается, и вид температурного гистерезиса оптического пропускания в области длин волн видимого и ближнего ультрафиолетовых диапазонов не везде повторяет вид гистерезиса электрического сопротивления пленок VO$_2$. Различное поведение кривых гистерезиса объясняется изменением поглощения в пленках при варьировании температуры.
Поступила в редакцию: 04.09.2014
Принята в печать: 23.09.2014
Англоязычная версия:
Semiconductors, 2015, Volume 49, Issue 5, Pages 563–569
DOI: https://doi.org/10.1134/S1063782615050188
Реферативные базы данных:
Тип публикации: Статья
Образец цитирования: О. А. Новодворский, Л. С. Паршина, О. Д. Храмова, В. А. Михалевский, К. Д. Щербачев, В. Я. Панченко, “Влияние условий импульсного лазерного осаждения на структурные, электрические и оптические свойства тонких пленок VO$_2$”, Физика и техника полупроводников, 49:5 (2015), 577–583; Semiconductors, 49:5 (2015), 563–569
Цитирование в формате AMSBIB
\RBibitem{NovParKhr15}
\by О.~А.~Новодворский, Л.~С.~Паршина, О.~Д.~Храмова, В.~А.~Михалевский, К.~Д.~Щербачев, В.~Я.~Панченко
\paper Влияние условий импульсного лазерного осаждения на структурные, электрические и оптические свойства тонких пленок VO$_2$
\jour Физика и техника полупроводников
\yr 2015
\vol 49
\issue 5
\pages 577--583
\mathnet{http://mi.mathnet.ru/phts7276}
\elib{https://elibrary.ru/item.asp?id=24195159}
\transl
\jour Semiconductors
\yr 2015
\vol 49
\issue 5
\pages 563--569
\crossref{https://doi.org/10.1134/S1063782615050188}
Образцы ссылок на эту страницу:
  • https://www.mathnet.ru/rus/phts7276
  • https://www.mathnet.ru/rus/phts/v49/i5/p577
  • Эта публикация цитируется в следующих 13 статьяx:
    Citing articles in Google Scholar: Russian citations, English citations
    Related articles in Google Scholar: Russian articles, English articles
    Физика и техника полупроводников Физика и техника полупроводников
     
      Обратная связь:
     Пользовательское соглашение  Регистрация посетителей портала  Логотипы © Математический институт им. В. А. Стеклова РАН, 2025