|
|
Физика и техника полупроводников, 2015, том 49, выпуск 5, страницы 577–583
(Mi phts7276)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 13 научных статьях (всего в 13 статьях)
Электронные свойства полупроводников
Влияние условий импульсного лазерного осаждения на структурные, электрические и оптические свойства тонких пленок VO$_2$
О. А. Новодворскийa, Л. С. Паршинаa, О. Д. Храмоваa, В. А. Михалевскийa, К. Д. Щербачевb, В. Я. Панченкоa a Институт проблем лазерных и информационных технологий Российской академии наук, 140700 Шатура, Россия
b Национальный исследовательский технологический университет "МИСиС", г. Москва
Аннотация:
Методом импульсного лазерного осаждения с сепарацией капель факела на монокристаллических подложках сапфира (0001) и кремния (111) получены тонкие пленки VO$_2$. Установлено влияние плотности энергии на мишени и давления кислорода на структурные и электрические свойства пленок. Все кристаллические пленки VO$_2$ демонстрируют переходы полупроводник-металл со значительным изменением электрического сопротивления от двух до пяти порядков величины. Исследовано пропускание пленок в диапазоне 200 – 800 нм и отражение в диапазоне 400–700 нм в интервале температур от 20 до 100$^\circ$C. Коэффициент пропускания пленок на длинах волн от 300 до 800 нм демонстрирует скачок пропускания и гистерезис при нагреве и охлаждении. Впервые установлено, что характер изменения пропускания пленок на разных длинах волн различается, и вид температурного гистерезиса оптического пропускания в области длин волн видимого и ближнего ультрафиолетовых диапазонов не везде повторяет вид гистерезиса электрического сопротивления пленок VO$_2$. Различное поведение кривых гистерезиса объясняется изменением поглощения в пленках при варьировании температуры.
Поступила в редакцию: 04.09.2014 Принята в печать: 23.09.2014
Образец цитирования:
О. А. Новодворский, Л. С. Паршина, О. Д. Храмова, В. А. Михалевский, К. Д. Щербачев, В. Я. Панченко, “Влияние условий импульсного лазерного осаждения на структурные, электрические и оптические свойства тонких пленок VO$_2$”, Физика и техника полупроводников, 49:5 (2015), 577–583; Semiconductors, 49:5 (2015), 563–569
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/phts7276 https://www.mathnet.ru/rus/phts/v49/i5/p577
|
|