|
|
Физика и техника полупроводников, 2015, том 49, выпуск 6, страницы 732–736
(Mi phts7304)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 3 научных статьях (всего в 3 статьях)
Конференция "Кремний-2014" , Иркутск, 7-12 июля
Поверхность, границы раздела, тонкие пленки
Влияние меди на рекомбинационную активность протяженных дефектов в кремнии
О. В. Феклисоваa, Е. Б. Якимовab a Институт проблем технологии микроэлектроники и особочистых материалов РАН, 142432 Черноголовка, Россия
b Национальный исследовательский технологический университет "МИСиС", 119049 Москва, Россия
Аннотация:
Методом наведенного электронным пучком тока исследовано влияние атомов меди, введенных посредством высокотемпературной диффузии, на рекомбинационные свойства дислокаций и следов за дислокациями в монокристаллическом кремнии $p$-типа. Показано, что после введения меди рекомбинационная активность следов за дислокациями существенно увеличивается в отличие от дислокаций. Обнаружено появление светлого контраста вблизи следов за дислокациями после диффузии меди и закалки образцов, интенсивность которого зависит от плотности дефектов в этих следах.
Поступила в редакцию: 20.10.2014 Принята в печать: 05.11.2014
Образец цитирования:
О. В. Феклисова, Е. Б. Якимов, “Влияние меди на рекомбинационную активность протяженных дефектов в кремнии”, Физика и техника полупроводников, 49:6 (2015), 732–736; Semiconductors, 49:6 (2015), 716–719
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/phts7304 https://www.mathnet.ru/rus/phts/v49/i6/p732
|
|