|
|
Физика и техника полупроводников, 2015, том 49, выпуск 7, страницы 887–898
(Mi phts7328)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 12 научных статьях (всего в 12 статьях)
Обзоры
Нанокластеры кремния, ncl-Si, в матрице гидрированного аморфного субокисла кремния, $a$-SiO$_x$ : H (0 $<x<$ 2). Обзор
Ю. К. Ундалов, Е. И. Теруков Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, 194021 Санкт-Петербург, Россия
Аннотация:
В работе проведен обзор литературы, касающейся плазменных способов получения и исследований нанокластеров кремния (ncl-Si) в кристаллической ($c$-SiO$_2$) и в аморфной ($a$-SiO$_x$ : H) матрицах. Рассмотрено влияние модуляции разрядов, высокочастотного (RF) или на постоянном токе (DC), на кинетику роста ncl-Si. Анализ результатов изучения состава плазмы проведен на основе исследований методами инфракрасной спектроскопии, масс-спектрометрии и сканирования лазерным лучом. Описано поведение наночастиц в зависимости от их заряда и размеров в плазме под действием электрических, магнитных, гравитационных сил, а также под влиянием газодинамики входящих в плазму газов. Проанализированы данные изучения матрицы (пленок $a$-SiO$_x$ : H) с помощью инфракрасной спектроскопии. Также описаны фотолюминесцентные свойства ncl-Si, получаемых различными способами.
Поступила в редакцию: 13.10.2014 Принята в печать: 18.11.2014
Образец цитирования:
Ю. К. Ундалов, Е. И. Теруков, “Нанокластеры кремния, ncl-Si, в матрице гидрированного аморфного субокисла кремния, $a$-SiO$_x$ : H (0 $<x<$ 2). Обзор”, Физика и техника полупроводников, 49:7 (2015), 887–898; Semiconductors, 49:7 (2015), 867–878
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/phts7328 https://www.mathnet.ru/rus/phts/v49/i7/p887
|
|