|
|
Физика и техника полупроводников, 2015, том 49, выпуск 7, страницы 932–935
(Mi phts7336)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 17 научных статьях (всего в 17 статьях)
Полупроводниковые структуры, низкоразмерные системы, квантовые явления
Исследование оптических свойств GaAs, выращенного методом молекулярно-лучевой эпитаксии при низких температурах роста, с $\delta$-легированными слоями Si
Д. В. Лаврухинab, А. Э. Ячменевab, А. С. Бугаевab, Г. Б. Галиевa, Е. А. Климовa, Р. А. Хабибуллинab, Д. С. Пономаревab, П. П. Мальцевa a Институт сверхвысокочастотной полупроводниковой электроники Российской академии наук, 117105 Москва, Россия
b Московский государственный технический университет имени Н. Э. Баумана, 105005 Москва, Россия
Аннотация:
Методом молекулярно-лучевой эпитаксии изготовлены структуры на основе “низкотемпературного” GaAs с введенными $\delta$-слоями кремния. После проведения отжига структур при температурах 520 и 580$^\circ$C с помощью спектроскопии фотолюминесценции обнаружены особенности в области энергий фотонов 1.28–1.48 эВ, которые связаны с образованием точечных дефектов и их комплексов. Методом “накачка–зондирование” в геометрии пропускания света определены характерные времена жизни неравновесных носителей тока в изготовленных структурах: $\tau_c\approx$ 1.2–1.5 пс.
Поступила в редакцию: 26.11.2014 Принята в печать: 15.12.2014
Образец цитирования:
Д. В. Лаврухин, А. Э. Ячменев, А. С. Бугаев, Г. Б. Галиев, Е. А. Климов, Р. А. Хабибуллин, Д. С. Пономарев, П. П. Мальцев, “Исследование оптических свойств GaAs, выращенного методом молекулярно-лучевой эпитаксии при низких температурах роста, с $\delta$-легированными слоями Si”, Физика и техника полупроводников, 49:7 (2015), 932–935; Semiconductors, 49:7 (2015), 911–914
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/phts7336 https://www.mathnet.ru/rus/phts/v49/i7/p932
|
| Статистика просмотров: |
| Страница аннотации: | 38 | | PDF полного текста: | 13 |
|