|
|
Физика и техника полупроводников, 2015, том 49, выпуск 7, страницы 951–955
(Mi phts7339)
|
|
|
|
Полупроводниковые структуры, низкоразмерные системы, квантовые явления
Сопротивление 4H-SiC барьеров Шоттки при высоких плотностях прямого тока
П. А. Иванов, Т. П. Самсонова, Н. Д. Ильинская, О. Ю. Серебренникова, О. И. Коньков, А. С. Потапов Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, 194021 Санкт-Петербург, Россия
Аннотация:
Экспериментально определено сопротивление шоттки-контактов на основе 4H-SiC при высоких плотностях прямого тока. Измеренное сопротивление существенно больше сопротивления, которое предсказывается классическими механизмами транспорта электронов через шоттки-контакт. Выдвигается и частично обосновывается предположение о решающем вкладе туннельно-прозрачного промежуточного окисного слоя между металлом и полупроводником в сопротивление барьерного контакта.
Поступила в редакцию: 17.12.2014 Принята в печать: 25.12.2014
Образец цитирования:
П. А. Иванов, Т. П. Самсонова, Н. Д. Ильинская, О. Ю. Серебренникова, О. И. Коньков, А. С. Потапов, “Сопротивление 4H-SiC барьеров Шоттки при высоких плотностях прямого тока”, Физика и техника полупроводников, 49:7 (2015), 951–955; Semiconductors, 49:7 (2015), 930–934
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/phts7339 https://www.mathnet.ru/rus/phts/v49/i7/p951
|
|