|
|
Физика и техника полупроводников, 2015, том 49, выпуск 8, страницы 1095–1103
(Mi phts7365)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 1 научной статье (всего в 1 статье)
Углеродные системы
Вакансии в эпитаксиальном графене
С. Ю. Давыдовab a Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, 194021 Санкт-Петербург, Россия
b Санкт-Петербургский национальный исследовательский университет информационных технологий, механики и оптики, 197101 Санкт-Петербург, Россия
Аннотация:
Методом когерентного потенциала рассмотрена задача о влиянии конечной концентрации случайно расположенных вакансий на плотность состояний эпитаксиального графена. Для описания плотности состояний подложки используются простые модели (Андерсона, Халдейна–Андерсона, параболическая). Электронный спектр однослойного свободного графена рассматривается в низкоэнергетическом приближении. Обсуждается переход заряда в системе графен-подложка. Показано, что во всех случаях плотность состояний эпитаксиального графена уменьшается пропорционально концентрации вакансий. При этом усредненное значение перехода заряда с графена в подложку увеличивается.
Поступила в редакцию: 12.11.2014 Принята в печать: 23.12.2014
Образец цитирования:
С. Ю. Давыдов, “Вакансии в эпитаксиальном графене”, Физика и техника полупроводников, 49:8 (2015), 1095–1103; Semiconductors, 49:8 (2015), 1069–1078
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/phts7365 https://www.mathnet.ru/rus/phts/v49/i8/p1095
|
|