|
|
Физика и техника полупроводников, 2015, том 49, выпуск 8, страницы 1120–1123
(Mi phts7369)
|
|
|
|
Изготовление, обработка, тестирование материалов и структур
Пространственно-контролируемый рост одиночных квантовых точек InP
А. С. Власовa, А. М. Минтаировab, Н. А. Калюжныйa, С. А. Минтаировa, Р. А. Салийa, А. И. Денисюкc, Р. А. Бабунцa a Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, 194021 Санкт-Петербург, Россия
b Notre Dame University, Notre Dame, IN, 46556, US
c НИУ "ИТМО", 197101 Санкт-Петербург, Россия
Аннотация:
Исследован процесс МОС-гидридной эпитаксии квантовых точек InP/GaInP на “дефектах” подложки (GaAs), сформированных сфокусированным пучком ионов Ga$^+$. Показано, что в системе InP/GaInP могут быть получены упорядоченные массивы квантовых точек с плотностью 0.25 мкм$^{-2}$. Показано, что эффективная люминесценция может быть получена при использовании двух слоев квантовых точек, разделенных буфером GaAs/GaInP.
Поступила в редакцию: 18.11.2014 Принята в печать: 27.11.2014
Образец цитирования:
А. С. Власов, А. М. Минтаиров, Н. А. Калюжный, С. А. Минтаиров, Р. А. Салий, А. И. Денисюк, Р. А. Бабунц, “Пространственно-контролируемый рост одиночных квантовых точек InP”, Физика и техника полупроводников, 49:8 (2015), 1120–1123; Semiconductors, 49:8 (2015), 1095–1098
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/phts7369 https://www.mathnet.ru/rus/phts/v49/i8/p1120
|
|