|
|
Физика и техника полупроводников, 2015, том 49, выпуск 10, страницы 1297–1303
(Mi phts7398)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 9 научных статьях (всего в 9 статьях)
Неэлектронные свойства полупроводников (атомная структура, диффузия)
Структурные свойства пленок ZnO : Al, полученных золь-гель методом
Е. П. Зарецкаяa, В. Ф. Гременокa, А. В. Семченкоb, В. В. Сидскийb, Р. Л. Юшкенасc a Научно-практический центр Национальной академии наук Беларуси по материаловедению, 220072 Минск, Белоруссия
b Гомельский государственный университет имени Франциска Скорины, 246699 Гомель, Белоруссия
c Государственный научно-исследовательский институт "Центр по физическим и технологическим наукам", ЛТ-01108 Вильнюс, Литва
Аннотация:
Пленки ZnO : Al получены золь-гель осаждением с применением различного типа реагентов при температурах 350–550$^\circ$C. Методами атомно-силовой микроскопии, рентгеновской дифракции, комбинационного рассеяния света и оптического пропускания исследована зависимость структурных, морфологических и оптических свойств ZnO : Al покрытий от условий осаждения. Определены оптимальные условия получения слоев ZnO : Al с преимущественной ориентацией в направлении [001] и низкой шероховатостью поверхности. Полученные слои имеют коэффициент оптического пропускания до 95% в широком спектральном диапазоне и могут быть использованы в приборах оптоэлектроники.
Поступила в редакцию: 12.01.2015 Принята в печать: 05.02.2015
Образец цитирования:
Е. П. Зарецкая, В. Ф. Гременок, А. В. Семченко, В. В. Сидский, Р. Л. Юшкенас, “Структурные свойства пленок ZnO : Al, полученных золь-гель методом”, Физика и техника полупроводников, 49:10 (2015), 1297–1303; Semiconductors, 49:10 (2015), 1253–1258
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/phts7398 https://www.mathnet.ru/rus/phts/v49/i10/p1297
|
|