|
|
Физика и техника полупроводников, 2015, том 49, выпуск 10, страницы 1351–1354
(Mi phts7407)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 1 научной статье (всего в 1 статье)
Поверхность, границы раздела, тонкие пленки
Уровень зарядовой нейтральности и электронные свойства межфазных границ в слоистом полупроводнике $\varepsilon$-GaSe
В. Н. Брудныйa, С. Ю. Саркисовa, А. В. Кособуцкийab a Национальный исследовательский Томский государственный университет, 634050 Томск, Россия
b Кемеровский государственный университет, 650043 Кемерово, Россия
Аннотация:
Высота барьера Шоттки (Au, Pd, Pt, Cu, Ag, Sn, In, Al, Mg, Ca, Li, Cs)/GaSe(0001) как функция работы выхода металла, а также разрывы энергетических зон гетеропар InSe(0001)/GaSe(0001) и GaSe(0001)/Si(111) проанализированы в рамках концепции уровня зарядовой нейтральности, CNL(GaSe) = $E_{vb}$ + 0.83 эВ, с учетом частичного экранирования интерфейсного электростатического диполя индуцированными металлом (полупроводником) состояниями туннельного типа на поверхности GaSe(0001).
Поступила в редакцию: 03.03.2015 Принята в печать: 09.03.2015
Образец цитирования:
В. Н. Брудный, С. Ю. Саркисов, А. В. Кособуцкий, “Уровень зарядовой нейтральности и электронные свойства межфазных границ в слоистом полупроводнике $\varepsilon$-GaSe”, Физика и техника полупроводников, 49:10 (2015), 1351–1354; Semiconductors, 49:10 (2015), 1307–1310
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/phts7407 https://www.mathnet.ru/rus/phts/v49/i10/p1351
|
|