Физика и техника полупроводников
RUS  ENG    ЖУРНАЛЫ   ПЕРСОНАЛИИ   ОРГАНИЗАЦИИ   КОНФЕРЕНЦИИ   СЕМИНАРЫ   ВИДЕОТЕКА   ПАКЕТ AMSBIB  
Общая информация
Последний выпуск
Архив
Правила для авторов

Поиск публикаций
Поиск ссылок

RSS
Последний выпуск
Текущие выпуски
Архивные выпуски
Что такое RSS



Физика и техника полупроводников:
Год:
Том:
Выпуск:
Страница:
Найти






Персональный вход:
Логин:
Пароль:
Запомнить пароль
Войти
Забыли пароль?
Регистрация


Физика и техника полупроводников, 2015, том 49, выпуск 11, страницы 1553–1557 (Mi phts7444)  

Эта публикация цитируется в 1 научной статье (всего в 1 статье)

Физика полупроводниковых приборов

Сравнительный анализ влияния электронного и дырочного захвата на мощностные характеристики полупроводникового лазера

З. Н. Соколоваa, Н. А. Пихтинa, И. С. Тарасовa, Л. В. Асрянb

a Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
b Virginia Polytechnic Institute and State University, Blacksburg, Virginia 24061, USA
Аннотация: Проведено сравнение рабочих характеристик полупроводникового лазера с квантовой ямой в активной области, рассчитанных с использованием трех моделей: модели, не учитывающей различий между электронными и дырочными параметрами и использующей электронные параметры для обоих типов носителей заряда; модели, не учитывающей различий между электронными и дырочными параметрами и использующей дырочные параметры для обоих типов носителей заряда; модели, учитывающей асимметрию электронных и дырочных параметров. Показано, что при одинаковых скоростях захвата электронов и дырок в пустую квантовую яму лазерные характеристики, полученные с использованием трех моделей, сильно различаются. Эти различия являются следствием различного заполнения электронами и дырками подзон размерного квантования в квантовой яме. Электронная подзона является более заполненной, чем дырочная, в результате чего при одинаковых скоростях захвата в пустую квантовую яму эффективная скорость электронного захвата меньше, чем эффективная скорость дырочного захвата. Показано, в частности, что для исследованной лазерной структуры скорость захвата дырок в пустую квантовую яму 5 $\cdot$ 10$^5$ см/с и соответствующая ей скорость захвата электронов 3 $\cdot$ 10$^6$ см/с описывают быстрый захват этих носителей, при котором ватт-амперная характеристика лазера остается практически линейной вплоть до высоких плотностей тока накачки. Скорость же захвата электронов 5 $\cdot$ 10$^5$ см/с и соответствующая ей скорость захвата дырок 8.4$\cdot$ 10$^4$ см/с описывают медленный захват этих носителей, приводящий к существенной сублинейности ватт-амперной характеристики.
Поступила в редакцию: 21.04.2015
Принята в печать: 05.05.2015
Англоязычная версия:
Semiconductors, 2015, Volume 49, Issue 11, Pages 1506–1510
DOI: https://doi.org/10.1134/S1063782615110202
Реферативные базы данных:
Тип публикации: Статья
Образец цитирования: З. Н. Соколова, Н. А. Пихтин, И. С. Тарасов, Л. В. Асрян, “Сравнительный анализ влияния электронного и дырочного захвата на мощностные характеристики полупроводникового лазера”, Физика и техника полупроводников, 49:11 (2015), 1553–1557; Semiconductors, 49:11 (2015), 1506–1510
Цитирование в формате AMSBIB
\RBibitem{SokPikTar15}
\by З.~Н.~Соколова, Н.~А.~Пихтин, И.~С.~Тарасов, Л.~В.~Асрян
\paper Сравнительный анализ влияния электронного и дырочного захвата на мощностные характеристики полупроводникового лазера
\jour Физика и техника полупроводников
\yr 2015
\vol 49
\issue 11
\pages 1553--1557
\mathnet{http://mi.mathnet.ru/phts7444}
\elib{https://elibrary.ru/item.asp?id=24195336}
\transl
\jour Semiconductors
\yr 2015
\vol 49
\issue 11
\pages 1506--1510
\crossref{https://doi.org/10.1134/S1063782615110202}
Образцы ссылок на эту страницу:
  • https://www.mathnet.ru/rus/phts7444
  • https://www.mathnet.ru/rus/phts/v49/i11/p1553
  • Эта публикация цитируется в следующих 1 статьяx:
    Citing articles in Google Scholar: Russian citations, English citations
    Related articles in Google Scholar: Russian articles, English articles
    Физика и техника полупроводников Физика и техника полупроводников
     
      Обратная связь:
     Пользовательское соглашение  Регистрация посетителей портала  Логотипы © Математический институт им. В. А. Стеклова РАН, 2025