Физика и техника полупроводников
RUS  ENG    ЖУРНАЛЫ   ПЕРСОНАЛИИ   ОРГАНИЗАЦИИ   КОНФЕРЕНЦИИ   СЕМИНАРЫ   ВИДЕОТЕКА   ПАКЕТ AMSBIB  
Общая информация
Последний выпуск
Архив
Правила для авторов

Поиск публикаций
Поиск ссылок

RSS
Последний выпуск
Текущие выпуски
Архивные выпуски
Что такое RSS



Физика и техника полупроводников:
Год:
Том:
Выпуск:
Страница:
Найти






Персональный вход:
Логин:
Пароль:
Запомнить пароль
Войти
Забыли пароль?
Регистрация


Физика и техника полупроводников, 2015, том 49, выпуск 12, страницы 1700–1703 (Mi phts7470)  

Эта публикация цитируется в 1 научной статье (всего в 1 статье)

Спектроскопия, взаимодействие с излучениями

Температурные зависимости интенсивностей фотолюминесценции центров в кремнии, имплантированном ионами эрбия и кислорода

Н. А. Соболевa, К. Ф. Штельмахab, А. Е. Калядинa, Е. И. Шекa

a Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, 194021 Санкт-Петербург, Россия
b Санкт-Петербургский государственный политехнический университет, 195251 Санкт-Петербург, Россия
Аннотация: Исследована низкотемпературная фотолюминесценция в кристаллах $n$-Cz–Si после последовательной имплантации ионов эрбия при повышенной температуре и ионов кислорода при комнатной температуре. В спектрах фотолюминесценции наблюдаются так называемые $X$- и $W$-центры, сформированные из собственных межузельных атомов кремния, $H$- и $P$-центры, содержащие атомы кислорода, и Er-центр, содержащий ионы Er$^{3+}$. Определены энергии возгорания и гашения фотолюминесценции для этих центров. Для $X$- и $H$-центров энергии определены впервые. В случае $P$- и Er-центров значения энергий практически совпадают с литературными данными. Для $W$-центров энергии гашения и возгорания интенсивности фотолюминесценции зависят от условий их образования.
Поступила в редакцию: 27.05.2015
Принята в печать: 05.06.2015
Англоязычная версия:
Semiconductors, 2015, Volume 49, Issue 12, Pages 1651–1654
DOI: https://doi.org/10.1134/S1063782615120209
Реферативные базы данных:
Тип публикации: Статья
Образец цитирования: Н. А. Соболев, К. Ф. Штельмах, А. Е. Калядин, Е. И. Шек, “Температурные зависимости интенсивностей фотолюминесценции центров в кремнии, имплантированном ионами эрбия и кислорода”, Физика и техника полупроводников, 49:12 (2015), 1700–1703; Semiconductors, 49:12 (2015), 1651–1654
Цитирование в формате AMSBIB
\RBibitem{SobShtKal15}
\by Н.~А.~Соболев, К.~Ф.~Штельмах, А.~Е.~Калядин, Е.~И.~Шек
\paper Температурные зависимости интенсивностей фотолюминесценции центров в кремнии, имплантированном ионами эрбия и кислорода
\jour Физика и техника полупроводников
\yr 2015
\vol 49
\issue 12
\pages 1700--1703
\mathnet{http://mi.mathnet.ru/phts7470}
\elib{https://elibrary.ru/item.asp?id=24195363}
\transl
\jour Semiconductors
\yr 2015
\vol 49
\issue 12
\pages 1651--1654
\crossref{https://doi.org/10.1134/S1063782615120209}
Образцы ссылок на эту страницу:
  • https://www.mathnet.ru/rus/phts7470
  • https://www.mathnet.ru/rus/phts/v49/i12/p1700
  • Эта публикация цитируется в следующих 1 статьяx:
    Citing articles in Google Scholar: Russian citations, English citations
    Related articles in Google Scholar: Russian articles, English articles
    Физика и техника полупроводников Физика и техника полупроводников
     
      Обратная связь:
     Пользовательское соглашение  Регистрация посетителей портала  Логотипы © Математический институт им. В. А. Стеклова РАН, 2025