|
|
Физика и техника полупроводников, 2015, том 49, выпуск 12, страницы 1700–1703
(Mi phts7470)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 1 научной статье (всего в 1 статье)
Спектроскопия, взаимодействие с излучениями
Температурные зависимости интенсивностей фотолюминесценции центров в кремнии, имплантированном ионами эрбия и кислорода
Н. А. Соболевa, К. Ф. Штельмахab, А. Е. Калядинa, Е. И. Шекa a Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, 194021 Санкт-Петербург, Россия
b Санкт-Петербургский государственный политехнический университет, 195251 Санкт-Петербург, Россия
Аннотация:
Исследована низкотемпературная фотолюминесценция в кристаллах $n$-Cz–Si после последовательной имплантации ионов эрбия при повышенной температуре и ионов кислорода при комнатной температуре. В спектрах фотолюминесценции наблюдаются так называемые $X$- и $W$-центры, сформированные из собственных межузельных атомов кремния, $H$- и $P$-центры, содержащие атомы кислорода, и Er-центр, содержащий ионы Er$^{3+}$. Определены энергии возгорания и гашения фотолюминесценции для этих центров. Для $X$- и $H$-центров энергии определены впервые. В случае $P$- и Er-центров значения энергий практически совпадают с литературными данными. Для $W$-центров энергии гашения и возгорания интенсивности фотолюминесценции зависят от условий их образования.
Поступила в редакцию: 27.05.2015 Принята в печать: 05.06.2015
Образец цитирования:
Н. А. Соболев, К. Ф. Штельмах, А. Е. Калядин, Е. И. Шек, “Температурные зависимости интенсивностей фотолюминесценции центров в кремнии, имплантированном ионами эрбия и кислорода”, Физика и техника полупроводников, 49:12 (2015), 1700–1703; Semiconductors, 49:12 (2015), 1651–1654
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/phts7470 https://www.mathnet.ru/rus/phts/v49/i12/p1700
|
|