|
|
Физика и техника полупроводников, 2014, том 48, выпуск 5, страницы 639–642
(Mi phts7588)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 2 научных статьях (всего в 2 статьях)
Полупроводниковые структуры, низкоразмерные системы, квантовые явления
Особенности спектров комбинационного рассеяния света структур кварц/Si и стекло/Si, обусловленные лазерным отжигом
Р. В. Конаковаa, А. Ф. Коломысa, О. Б. Охрименкоa, В. В. Стрельчукa, А. М. Светличныйb, М. Н. Григорьевb, Б. Г. Коноплевb a Институт физики полупроводников им. В. Е. Лашкарева НАН Украины, 03028 Киев, Украина
b Таганрогский технологический институт Южного федерального университета, 347928 Таганрог, Россия
Аннотация:
Методом комбинационного рассеяния света исследовано влияние лазерного излучения на характеристики пленок аморфного кремния на стеклянной и кварцевой подложках. Выявлено, что увеличение мощности лазерной обработки приводит к фазовому переходу от аморфного кремния к нано-Si. Изменение соотношения доли нанокристаллического и аморфного кремния в пленке описывается в рамках модели критического воздействия.
Поступила в редакцию: 12.08.2013 Принята в печать: 26.08.2013
Образец цитирования:
Р. В. Конакова, А. Ф. Коломыс, О. Б. Охрименко, В. В. Стрельчук, А. М. Светличный, М. Н. Григорьев, Б. Г. Коноплев, “Особенности спектров комбинационного рассеяния света структур кварц/Si и стекло/Si, обусловленные лазерным отжигом”, Физика и техника полупроводников, 48:5 (2014), 639–642; Semiconductors, 48:5 (2014), 621–624
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/phts7588 https://www.mathnet.ru/rus/phts/v48/i5/p639
|
|