|
|
Физика и техника полупроводников, 2014, том 48, выпуск 6, страницы 759–762
(Mi phts7609)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 2 научных статьях (всего в 2 статьях)
Поверхность, границы раздела, тонкие пленки
Свойства пленок TiO$_2$ на кремниевых подложках
В. М. Калыгина, В. А. Новиков, Ю. С. Петрова, О. П. Толбанов, Е. В. Черников, С. Ю. Цупий, Т. М. Яскевич Сибирский физико-технический институт им. акад. В. Д. Кузнецова при Томском государственном университете, 634050 Томск, Россия
Аннотация:
Исследовано влияние материала подложки и воздействие кислородной плазмы на микрорельеф и электрические характеристики пленок TiO$_2$, полученных ВЧ магнетронным распылением. Показано, что наиболее сплошные пленки с меньшей шероховатостью получаются при напылении их на кремниевые подложки. Изменение вольт-фарадных и вольт-сименсных характеристик структур после воздействия кислородной плазмы объясняется диффузией атомов кислорода через пленку оксида титана и появлением слоя SiО$_2$ на границе Si–TiO$_2$.
Поступила в редакцию: 10.09.2013 Принята в печать: 21.09.2013
Образец цитирования:
В. М. Калыгина, В. А. Новиков, Ю. С. Петрова, О. П. Толбанов, Е. В. Черников, С. Ю. Цупий, Т. М. Яскевич, “Свойства пленок TiO$_2$ на кремниевых подложках”, Физика и техника полупроводников, 48:6 (2014), 759–762; Semiconductors, 48:6 (2014), 739–742
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/phts7609 https://www.mathnet.ru/rus/phts/v48/i6/p759
|
|