|
|
Физика и техника полупроводников, 2014, том 48, выпуск 6, страницы 763–767
(Mi phts7620)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 1 научной статье (всего в 1 статье)
Поверхность, границы раздела, тонкие пленки
Влияние ионно-лучевой обработки в процессе реактивного высокочастотного магнетронного распыления на макронапряжения ITO пленок
П. Н. Крылов, Р. М. Закирова, И. В. Федотова Удмуртский государственный университет, 426034 Ижевск, Россия
Аннотация:
Прозрачные проводящие пленки оксида индия, легированного оловом, получены методом чередующихся процессов реактивного ВЧ магнетронного распыления и ионной обработки. Рентгенографически исследованы напряженные состояния ITO пленок. Показано влияние технологических режимов на изменение макронапряжений в пленках ITO.
Поступила в редакцию: 15.10.2013 Принята в печать: 21.10.2013
Образец цитирования:
П. Н. Крылов, Р. М. Закирова, И. В. Федотова, “Влияние ионно-лучевой обработки в процессе реактивного высокочастотного магнетронного распыления на макронапряжения ITO пленок”, Физика и техника полупроводников, 48:6 (2014), 763–767; Semiconductors, 48:6 (2014), 743–747
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/phts7620 https://www.mathnet.ru/rus/phts/v48/i6/p763
|
|