Физика и техника полупроводников
RUS  ENG    ЖУРНАЛЫ   ПЕРСОНАЛИИ   ОРГАНИЗАЦИИ   КОНФЕРЕНЦИИ   СЕМИНАРЫ   ВИДЕОТЕКА   ПАКЕТ AMSBIB  
Общая информация
Последний выпуск
Архив
Правила для авторов

Поиск публикаций
Поиск ссылок

RSS
Последний выпуск
Текущие выпуски
Архивные выпуски
Что такое RSS



Физика и техника полупроводников:
Год:
Том:
Выпуск:
Страница:
Найти






Персональный вход:
Логин:
Пароль:
Запомнить пароль
Войти
Забыли пароль?
Регистрация


Физика и техника полупроводников, 2014, том 48, выпуск 9, страницы 1153–1163 (Mi phts7682)  

Электронные свойства полупроводников

Центры рекомбинации и прилипания в чистых и легированных кристаллах TlBr

И. М. Газизовa, В. М. Залетинb, А. В. Говорковc, М. С. Кузнецовc, И. С. Лисицкийc, А. Я. Поляковc, Н. Б. Смирновc

a ОАО "Институт физико-технических проблем", 141980 Дубна, Россия
b Государственный университет "Дубна", 141980 Дубна, Россия
c OAO "Гиредмет", 119017 Москва, Россия
Аннотация: TlBr является перспективным широкозонным полупроводником для создания детекторов $\gamma$-излучения. Одним из сдерживающих факторов развития технологии изготовления детекторов является отсутствие экспериментально установленных центров прилипания и рекомбинации. В работе дана обобщенная модель возникновения и поведения собственных дефектов в чистых и легированных монокристаллах TlBr, установлена их связь с условиями роста и электрофизическими свойствами. В качестве объектов для анализа использовались ранее полученные температурные зависимости фотопроводимости, данные токовой релаксационной спектроскопии глубоких уровней и микрокатодолюминесценции, кинетические характеристики фотопроводимости. Показано значение компенсации заряженных центров, определяющих транспортные характеристики носителей заряда. В компенсированных легированных кристаллах TlBr произведение подвижности и времени жизни может достигать $\mu\tau$ = 5 $\cdot$ 10$^{-4}$ см$^2$ $\cdot$ B$^{-1}$. Предложена энергетическая диаграмма локальных уровней в чистых и легированных кристаллах TlBr. Определены энергии залегания основных структурных и примесных дефектов в TlBr: анионной вакансии $V_a^+$ и катионной вакансии $V_c^-$, ионов Pb$^{2+}$, O$^{2-}$, S$^{2-}$. Энергетическое положение одиночной анионной вакансии составляет $E_c$ – 0.22 эВ. Глубина залегания катионной вакансии составляет $E_v$ + 0.85 эВ для изолированной катионной вакансии и $E_v$ + 0.58 эВ в составе комплекса $\{$Pb$^{2+} V_c^-\}^0$. Энергетический уровень кулоновской ловушки Pb$^{2+}$ в легированных кристаллах TlBr имеет энергию $E_c$ – 0.08 эВ.
Поступила в редакцию: 11.11.2013
Принята в печать: 28.11.2013
Англоязычная версия:
Semiconductors, 2014, Volume 48, Issue 9, Pages 1123–1133
DOI: https://doi.org/10.1134/S1063782614090103
Реферативные базы данных:
Тип публикации: Статья
Образец цитирования: И. М. Газизов, В. М. Залетин, А. В. Говорков, М. С. Кузнецов, И. С. Лисицкий, А. Я. Поляков, Н. Б. Смирнов, “Центры рекомбинации и прилипания в чистых и легированных кристаллах TlBr”, Физика и техника полупроводников, 48:9 (2014), 1153–1163; Semiconductors, 48:9 (2014), 1123–1133
Цитирование в формате AMSBIB
\RBibitem{GazZalGov14}
\by И.~М.~Газизов, В.~М.~Залетин, А.~В.~Говорков, М.~С.~Кузнецов, И.~С.~Лисицкий, А.~Я.~Поляков, Н.~Б.~Смирнов
\paper Центры рекомбинации и прилипания в чистых и легированных кристаллах TlBr
\jour Физика и техника полупроводников
\yr 2014
\vol 48
\issue 9
\pages 1153--1163
\mathnet{http://mi.mathnet.ru/phts7682}
\elib{https://elibrary.ru/item.asp?id=22018924}
\transl
\jour Semiconductors
\yr 2014
\vol 48
\issue 9
\pages 1123--1133
\crossref{https://doi.org/10.1134/S1063782614090103}
Образцы ссылок на эту страницу:
  • https://www.mathnet.ru/rus/phts7682
  • https://www.mathnet.ru/rus/phts/v48/i9/p1153
  • Citing articles in Google Scholar: Russian citations, English citations
    Related articles in Google Scholar: Russian articles, English articles
    Физика и техника полупроводников Физика и техника полупроводников
     
      Обратная связь:
     Пользовательское соглашение  Регистрация посетителей портала  Логотипы © Математический институт им. В. А. Стеклова РАН, 2025