|
|
Физика и техника полупроводников, 2014, том 48, выпуск 9, страницы 1228–1233
(Mi phts7695)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 12 научных статьях (всего в 12 статьях)
Полупроводниковые структуры, низкоразмерные системы, квантовые явления
Ионный синтез нанокристаллов InSb в захороненном слое SiO$_2$ структуры кремний-на-изоляторе
И. Е. Тысченкоa, М. Фельсковb, А. Г. Черковa, В. П. Поповa a Институт физики полупроводников им. А. В. Ржанова СО РАН, 630090 Новосибирск, Россия
b Институт ионно-лучевой физики, Исследовательский Центр Россендорф, Д-01314 Дрезден, Германия
Аннотация:
Исследован ионный синтез нанокристаллов InSb в слое захороненного SiO$_2$ структуры кремний-на-изоляторе. Изучены профили распределения атомов индия и сурьмы после отжига при температуре $T_a$ = 500–1100$^\circ$C. Установлено, что перераспределение имплантированных атомов имеет немонотонный характер в зависимости от температуры отжига. Формирование нанокристаллов InSb происходит при $T_a\ge$ 800$^\circ$C вблизи границы Si/SiO$_2$ и на глубине средних пробегов Rp. Анализ профилей имплантированных атомов и структуры и распределения по глубине формирующихся нанокристаллов позволил сделать предположение о двухстадийном характере образования фазы InSb: на первой стадии происходит формирование преципитатов сурьмы, которые играют роль зародышей для дальнейшего стока на них атомов In и Sb.
Поступила в редакцию: 16.01.2014 Принята в печать: 03.02.2014
Образец цитирования:
И. Е. Тысченко, М. Фельсков, А. Г. Черков, В. П. Попов, “Ионный синтез нанокристаллов InSb в захороненном слое SiO$_2$ структуры кремний-на-изоляторе”, Физика и техника полупроводников, 48:9 (2014), 1228–1233; Semiconductors, 48:9 (2014), 1196–1201
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/phts7695 https://www.mathnet.ru/rus/phts/v48/i9/p1228
|
|