|
|
Физика и техника полупроводников, 2014, том 48, выпуск 9, страницы 1249–1253
(Mi phts7699)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 9 научных статьях (всего в 9 статьях)
Физика полупроводниковых приборов
Влияние постростовых технологий на характеристики трехпереходных солнечных элементов InGaP/Ga(In)As/Ge
В. М. Андреев, Е. А. Гребенщикова, П. А. Дмитриев, Н. Д. Ильинская, В. С. Калиновский, Е. В. Контрош, А. В. Малевская, А. А. Усикова Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, 194021 Санкт-Петербург, Россия
Аннотация:
Исследованы фотоэлектрические характеристики трехпереходных солнечных элементов InGaP/Ga(In)As/Ge в зависимости от метода формирования чипа фотоэлемента. Показано, что применение разработанной постростовой технологии разделения на чипы наногетероструктуры в едином процессе позволяет повысить качество пассивации боковой поверхности мезы чипов, что обеспечивает уменьшение поверхностных токов утечки и увеличение выхода приборов с улучшенными характеристиками.
Поступила в редакцию: 27.12.2013 Принята в печать: 20.01.2014
Образец цитирования:
В. М. Андреев, Е. А. Гребенщикова, П. А. Дмитриев, Н. Д. Ильинская, В. С. Калиновский, Е. В. Контрош, А. В. Малевская, А. А. Усикова, “Влияние постростовых технологий на характеристики трехпереходных солнечных элементов InGaP/Ga(In)As/Ge”, Физика и техника полупроводников, 48:9 (2014), 1249–1253; Semiconductors, 48:9 (2014), 1217–1221
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/phts7699 https://www.mathnet.ru/rus/phts/v48/i9/p1249
|
|