|
|
Физика и техника полупроводников, 2014, том 48, выпуск 11, страницы 1564–1569
(Mi phts7757)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 9 научных статьях (всего в 9 статьях)
Изготовление, обработка, тестирование материалов и структур
Структура и оптические свойства тонких пленок Al$_2$O$_3$, полученных методом реактивного ионно-плазменного распыления на подложках GaAs(100)
П. В. Серединa, Д. Л. Голощаповa, А. Н. Лукинa, А. С. Леньшинa, А. Д. Бондаревb, И. Н. Арсентьевb, Л. С. Вавиловаb, И. С. Тарасовb a Воронежский государственный университет, 394006 Воронеж, Россия
b Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, 194021 Санкт-Петербург, Россия
Аннотация:
Методами структурного анализа и оптической спектроскопии исследованы свойства ультратонких пленок Al$_2$O$_3$, полученных на установке ионно-плазменного распыления. Удалось показать, что используемый технологический метод позволяет получать аморфные, гладкие, ультратонкие пленки, беспористые и практически однородные, с зарождающимися в них кристаллами $\alpha$-фазы оксида алюминия Al$_2$O$_3$. При этом пленки отлично пропускают оптическое излучение в инфракрасном, видимом, ультрафиолетовом диапазонах и потенциально значимы для создания на их основе просветляющих покрытий зеркал мощных полупроводниковых лазеров на основе A$^{\mathrm{III}}$B$^{\mathrm{V}}$.
Поступила в редакцию: 20.03.2014 Принята в печать: 28.03.2014
Образец цитирования:
П. В. Середин, Д. Л. Голощапов, А. Н. Лукин, А. С. Леньшин, А. Д. Бондарев, И. Н. Арсентьев, Л. С. Вавилова, И. С. Тарасов, “Структура и оптические свойства тонких пленок Al$_2$O$_3$, полученных методом реактивного ионно-плазменного распыления на подложках GaAs(100)”, Физика и техника полупроводников, 48:11 (2014), 1564–1569; Semiconductors, 48:11 (2014), 1527–1531
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/phts7757 https://www.mathnet.ru/rus/phts/v48/i11/p1564
|
|