Физика и техника полупроводников
RUS  ENG    ЖУРНАЛЫ   ПЕРСОНАЛИИ   ОРГАНИЗАЦИИ   КОНФЕРЕНЦИИ   СЕМИНАРЫ   ВИДЕОТЕКА   ПАКЕТ AMSBIB  
Общая информация
Последний выпуск
Архив
Правила для авторов

Поиск публикаций
Поиск ссылок

RSS
Последний выпуск
Текущие выпуски
Архивные выпуски
Что такое RSS



Физика и техника полупроводников:
Год:
Том:
Выпуск:
Страница:
Найти






Персональный вход:
Логин:
Пароль:
Запомнить пароль
Войти
Забыли пароль?
Регистрация


Физика и техника полупроводников, 2014, том 48, выпуск 11, страницы 1570–1572 (Mi phts7758)  

Эта публикация цитируется в 1 научной статье (всего в 1 статье)

Изготовление, обработка, тестирование материалов и структур

Зависимость скорости роста слоя AlN от величины зазора между источником и подложкой при сублимационном методе выращивания

А. А. Вольфсон

Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, 194021 Санкт-Петербург, Россия
Аннотация: В предлагаемой работе, посвященной изучению условий роста толстых слоев и объемных кристаллов АlN в сублимационном сандвич-методе, впервые для этого материала экспериментально получены зависимости скорости роста слоя от величины зазора источник-подложка для двух значений давления азота в реакторе: 0.3 и 0.6 бар. Полученные результаты указывают на то, что основным механизмом переноса компонентов источника на подложку является диффузия. Вклад кинетических эффектов становится заметным при минимальном зазоре 0.3 мм, особенно при меньшем давлении азота, 0.3 бар.
Поступила в редакцию: 01.04.2014
Принята в печать: 22.04.2014
Англоязычная версия:
Semiconductors, 2014, Volume 48, Issue 11, Pages 1532–1534
DOI: https://doi.org/10.1134/S1063782614110281
Реферативные базы данных:
Тип публикации: Статья
Образец цитирования: А. А. Вольфсон, “Зависимость скорости роста слоя AlN от величины зазора между источником и подложкой при сублимационном методе выращивания”, Физика и техника полупроводников, 48:11 (2014), 1570–1572; Semiconductors, 48:11 (2014), 1532–1534
Цитирование в формате AMSBIB
\RBibitem{Vol14}
\by А.~А.~Вольфсон
\paper Зависимость скорости роста слоя AlN от величины зазора между источником и подложкой при сублимационном методе выращивания
\jour Физика и техника полупроводников
\yr 2014
\vol 48
\issue 11
\pages 1570--1572
\mathnet{http://mi.mathnet.ru/phts7758}
\elib{https://elibrary.ru/item.asp?id=22019004}
\transl
\jour Semiconductors
\yr 2014
\vol 48
\issue 11
\pages 1532--1534
\crossref{https://doi.org/10.1134/S1063782614110281}
Образцы ссылок на эту страницу:
  • https://www.mathnet.ru/rus/phts7758
  • https://www.mathnet.ru/rus/phts/v48/i11/p1570
  • Эта публикация цитируется в следующих 1 статьяx:
    Citing articles in Google Scholar: Russian citations, English citations
    Related articles in Google Scholar: Russian articles, English articles
    Физика и техника полупроводников Физика и техника полупроводников
     
      Обратная связь:
     Пользовательское соглашение  Регистрация посетителей портала  Логотипы © Математический институт им. В. А. Стеклова РАН, 2025