|
|
Физика и техника полупроводников, 2013, том 47, выпуск 2, страницы 195–198
(Mi phts7824)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 6 научных статьях (всего в 6 статьях)
IX международная конференция "КРЕМНИЙ-2012" , Санкт-Петербург, 9-13 июля 2012 г.
Влияние примесей металлов на рекомбинационную активность дислокаций в мультикристаллическом кремнии
О. В. Феклисоваa, X. Yub, D. Yangb, Е. Б. Якимовa a Институт проблем технологии микроэлектроники и особочистых материалов РАН
b Государственная ключевая лаборатория кремниевых материалов, Чжэцзянский университет,
310027 Ханьжоу, Китай
Аннотация:
Методом наведенного тока исследовано влияние атомов железа, меди и никеля, введенных при высокотемпературной диффузии, на рекомбинационные свойства дислокаций в мультикристаллическом кремнии. Показано, что влияние всех трех примесей качественно одинаково. Рекомбинационная активность дислокаций остается ниже предела обнаружения в режиме наведенного тока как в исходных образцах, так и после диффузии переходных металлов. Такое поведение дислокаций объясняется в предположении, что дислокации уже в исходных образцах насыщены примесями.
Поступила в редакцию: 17.07.2012 Принята в печать: 20.07.2012
Образец цитирования:
О. В. Феклисова, X. Yu, D. Yang, Е. Б. Якимов, “Влияние примесей металлов на рекомбинационную активность дислокаций в мультикристаллическом кремнии”, Физика и техника полупроводников, 47:2 (2013), 195–198; Semiconductors, 47:2 (2013), 232–234
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/phts7824 https://www.mathnet.ru/rus/phts/v47/i2/p195
|
|