Физика и техника полупроводников
RUS  ENG    ЖУРНАЛЫ   ПЕРСОНАЛИИ   ОРГАНИЗАЦИИ   КОНФЕРЕНЦИИ   СЕМИНАРЫ   ВИДЕОТЕКА   ПАКЕТ AMSBIB  
Общая информация
Последний выпуск
Архив
Правила для авторов

Поиск публикаций
Поиск ссылок

RSS
Последний выпуск
Текущие выпуски
Архивные выпуски
Что такое RSS



Физика и техника полупроводников:
Год:
Том:
Выпуск:
Страница:
Найти






Персональный вход:
Логин:
Пароль:
Запомнить пароль
Войти
Забыли пароль?
Регистрация


Физика и техника полупроводников, 2013, том 47, выпуск 2, страницы 255–257 (Mi phts7835)  

Эта публикация цитируется в 1 научной статье (всего в 1 статье)

IX международная конференция "КРЕМНИЙ-2012" , Санкт-Петербург, 9-13 июля 2012 г.

Электрически активные центры, образующиеся в кремнии в процессе высокотемпературной диффузии бора и алюминия

Н. А. Соболевa, А. С. Лошаченкоb, Д. С. Полоскинa, Е. И. Шекa

a Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
b Научно-исследовательский институт физики им. В. А. Фока Санкт-Петербургского государственного университета
Аннотация: Параметры электрически активных центров, образующихся в процессе высокотемпературной диффузии бора и алюминия в кремний в разных средах, исследовались методами Холла и емкостной спектроскопии. Установлено, что изменение удельного сопротивления в n-базе изготовленных структур с $p$$n$-переходами контролируется образованием трех донорных уровней $Q1$, $E4$, $Q3$ с энергиями $E_c$ – 0.31, $E_c$ – 0.27 и $E_c$ – 0.16 эВ. После диффузии в хлорсодержащей атмосфере вводится только один уровень $E4$, но его концентрация меньше в 2.5 раза по сравнению с диффузией на воздухе. Значения энергии ионизации уровня $Q3$, измеренные в равновесных (эффект Холла) и неравновесных (емкостная спектроскопия) условиях, практически совпадают. Наиболее глубокий уровень $E1$ с энергией $E_c$ – 0.54 эВ, образующийся после диффузии в обеих средах, не оказывает влияния на значение удельного сопротивления в $n$-базе структур.
Поступила в редакцию: 17.07.2012
Принята в печать: 20.07.2012
Англоязычная версия:
Semiconductors, 2013, Volume 47, Issue 2, Pages 289–291
DOI: https://doi.org/10.1134/S106378261302019X
Реферативные базы данных:
Тип публикации: Статья
Образец цитирования: Н. А. Соболев, А. С. Лошаченко, Д. С. Полоскин, Е. И. Шек, “Электрически активные центры, образующиеся в кремнии в процессе высокотемпературной диффузии бора и алюминия”, Физика и техника полупроводников, 47:2 (2013), 255–257; Semiconductors, 47:2 (2013), 289–291
Цитирование в формате AMSBIB
\RBibitem{SobLosPol13}
\by Н.~А.~Соболев, А.~С.~Лошаченко, Д.~С.~Полоскин, Е.~И.~Шек
\paper Электрически активные центры, образующиеся в кремнии в процессе высокотемпературной диффузии бора и алюминия
\jour Физика и техника полупроводников
\yr 2013
\vol 47
\issue 2
\pages 255--257
\mathnet{http://mi.mathnet.ru/phts7835}
\elib{https://elibrary.ru/item.asp?id=20319373}
\transl
\jour Semiconductors
\yr 2013
\vol 47
\issue 2
\pages 289--291
\crossref{https://doi.org/10.1134/S106378261302019X}
Образцы ссылок на эту страницу:
  • https://www.mathnet.ru/rus/phts7835
  • https://www.mathnet.ru/rus/phts/v47/i2/p255
  • Эта публикация цитируется в следующих 1 статьяx:
    Citing articles in Google Scholar: Russian citations, English citations
    Related articles in Google Scholar: Russian articles, English articles
    Физика и техника полупроводников Физика и техника полупроводников
     
      Обратная связь:
     Пользовательское соглашение  Регистрация посетителей портала  Логотипы © Математический институт им. В. А. Стеклова РАН, 2025