|
|
Физика и техника полупроводников, 2013, том 47, выпуск 2, страницы 255–257
(Mi phts7835)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 1 научной статье (всего в 1 статье)
IX международная конференция "КРЕМНИЙ-2012" , Санкт-Петербург, 9-13 июля 2012 г.
Электрически активные центры, образующиеся в кремнии в процессе высокотемпературной диффузии бора и алюминия
Н. А. Соболевa, А. С. Лошаченкоb, Д. С. Полоскинa, Е. И. Шекa a Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
b Научно-исследовательский институт физики им. В. А. Фока Санкт-Петербургского государственного университета
Аннотация:
Параметры электрически активных центров, образующихся в процессе высокотемпературной диффузии бора и алюминия в кремний в разных средах, исследовались методами Холла и емкостной спектроскопии. Установлено, что изменение удельного сопротивления в n-базе изготовленных структур с $p$–$n$-переходами контролируется образованием трех донорных уровней $Q1$, $E4$, $Q3$ с энергиями $E_c$ – 0.31, $E_c$ – 0.27 и $E_c$ – 0.16 эВ. После диффузии в хлорсодержащей атмосфере вводится только один уровень $E4$, но его концентрация меньше в 2.5 раза по сравнению с диффузией на воздухе. Значения энергии ионизации уровня $Q3$, измеренные в равновесных (эффект Холла) и неравновесных (емкостная спектроскопия) условиях, практически совпадают. Наиболее глубокий уровень $E1$ с энергией $E_c$ – 0.54 эВ, образующийся после диффузии в обеих средах, не оказывает влияния на значение удельного сопротивления в $n$-базе структур.
Поступила в редакцию: 17.07.2012 Принята в печать: 20.07.2012
Образец цитирования:
Н. А. Соболев, А. С. Лошаченко, Д. С. Полоскин, Е. И. Шек, “Электрически активные центры, образующиеся в кремнии в процессе высокотемпературной диффузии бора и алюминия”, Физика и техника полупроводников, 47:2 (2013), 255–257; Semiconductors, 47:2 (2013), 289–291
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/phts7835 https://www.mathnet.ru/rus/phts/v47/i2/p255
|
|