Физика и техника полупроводников
RUS  ENG    ЖУРНАЛЫ   ПЕРСОНАЛИИ   ОРГАНИЗАЦИИ   КОНФЕРЕНЦИИ   СЕМИНАРЫ   ВИДЕОТЕКА   ПАКЕТ AMSBIB  
Общая информация
Последний выпуск
Архив
Правила для авторов

Поиск публикаций
Поиск ссылок

RSS
Последний выпуск
Текущие выпуски
Архивные выпуски
Что такое RSS



Физика и техника полупроводников:
Год:
Том:
Выпуск:
Страница:
Найти






Персональный вход:
Логин:
Пароль:
Запомнить пароль
Войти
Забыли пароль?
Регистрация


Физика и техника полупроводников, 2013, том 47, выпуск 5, страницы 586–590 (Mi phts7891)  

Эта публикация цитируется в 3 научных статьях (всего в 3 статьях)

Поверхность, границы раздела, тонкие пленки

Механизм переноса заряда в тонких пленках твердых растворов Bi$_2$(Tе$_{0.9}$Se$_{0.1}$)$_3$

Н. А. Абдуллаевa, Н. М. Абдуллаевa, Х. В. Алигулиеваa, А. М. Керимоваa, К. М. Мустафаеваa, И. Т. Мамедоваa, Н. Т. Мамедовa, С. А. Немовb, П. О. Буланчукc

a Институт физики им. Г.М. Абдуллаева НАН Азербайджана, AZ-1143 Баку, Азербайджан
b Санкт-Петербургский государственный политехнический университет, 195251 Санкт-Петербург, Россия
c Институт физики твердого тела Российской академии наук, 142432 Черноголовка, Московская обл., Россия
Аннотация: Исследованы электропроводность, эффект Холла и магнитосопротивление в тонких пленках Bi$_2$(Tе$_{0.9}$Se$_{0.1}$)$_3$ в широком интервале температур 2.5–300 K и в сильных магнитных полях вплоть до 8 Тл. Обнаружено, что, в то время как в объемных монокристаллах проводимость имеет “металлический” характер, в тонких пленках Bi$_2$(Tе$_{0.9}$Se$_{0.1}$)$_3$ проводимость “диэлектрического” типа. Предложено, что при высоких температурах 100–300 K проводимость определяется в основном термоактивированными носителями заряда по протяженным состояниям зоны проводимости с энергией активации примерно равной 15 мэВ. При более низких температурах 2.5–70 K доминирует проводимость, обусловленная прыжками носителей заряда по локализованным состояниям, лежащим в узкой полоске энергий вблизи уровня Ферми. Из данных магнитосопротивления и электропроводности оценены радиус локализации, а также плотность локализованных состояний и средняя длина прыжка носителей заряда.
Поступила в редакцию: 18.06.2012
Принята в печать: 25.06.2012
Англоязычная версия:
Semiconductors, 2013, Volume 47, Issue 5, Pages 602–605
DOI: https://doi.org/10.1134/S1063782613050023
Реферативные базы данных:
Тип публикации: Статья
Образец цитирования: Н. А. Абдуллаев, Н. М. Абдуллаев, Х. В. Алигулиева, А. М. Керимова, К. М. Мустафаева, И. Т. Мамедова, Н. Т. Мамедов, С. А. Немов, П. О. Буланчук, “Механизм переноса заряда в тонких пленках твердых растворов Bi$_2$(Tе$_{0.9}$Se$_{0.1}$)$_3$”, Физика и техника полупроводников, 47:5 (2013), 586–590; Semiconductors, 47:5 (2013), 602–605
Цитирование в формате AMSBIB
\RBibitem{AbdAbdAli13}
\by Н.~А.~Абдуллаев, Н.~М.~Абдуллаев, Х.~В.~Алигулиева, А.~М.~Керимова, К.~М.~Мустафаева, И.~Т.~Мамедова, Н.~Т.~Мамедов, С.~А.~Немов, П.~О.~Буланчук
\paper Механизм переноса заряда в тонких пленках твердых растворов Bi$_2$(Tе$_{0.9}$Se$_{0.1}$)$_3$
\jour Физика и техника полупроводников
\yr 2013
\vol 47
\issue 5
\pages 586--590
\mathnet{http://mi.mathnet.ru/phts7891}
\elib{https://elibrary.ru/item.asp?id=20319430}
\transl
\jour Semiconductors
\yr 2013
\vol 47
\issue 5
\pages 602--605
\crossref{https://doi.org/10.1134/S1063782613050023}
Образцы ссылок на эту страницу:
  • https://www.mathnet.ru/rus/phts7891
  • https://www.mathnet.ru/rus/phts/v47/i5/p586
  • Эта публикация цитируется в следующих 3 статьяx:
    Citing articles in Google Scholar: Russian citations, English citations
    Related articles in Google Scholar: Russian articles, English articles
    Физика и техника полупроводников Физика и техника полупроводников
     
      Обратная связь:
     Пользовательское соглашение  Регистрация посетителей портала  Логотипы © Математический институт им. В. А. Стеклова РАН, 2025