|
|
Физика и техника полупроводников, 2013, том 47, выпуск 5, страницы 586–590
(Mi phts7891)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 3 научных статьях (всего в 3 статьях)
Поверхность, границы раздела, тонкие пленки
Механизм переноса заряда в тонких пленках твердых растворов Bi$_2$(Tе$_{0.9}$Se$_{0.1}$)$_3$
Н. А. Абдуллаевa, Н. М. Абдуллаевa, Х. В. Алигулиеваa, А. М. Керимоваa, К. М. Мустафаеваa, И. Т. Мамедоваa, Н. Т. Мамедовa, С. А. Немовb, П. О. Буланчукc a Институт физики им. Г.М. Абдуллаева НАН Азербайджана,
AZ-1143 Баку, Азербайджан
b Санкт-Петербургский государственный политехнический университет,
195251 Санкт-Петербург, Россия
c Институт физики твердого тела Российской академии наук,
142432 Черноголовка, Московская обл., Россия
Аннотация:
Исследованы электропроводность, эффект Холла и магнитосопротивление в тонких пленках Bi$_2$(Tе$_{0.9}$Se$_{0.1}$)$_3$ в широком интервале температур 2.5–300 K и в сильных магнитных полях вплоть до 8 Тл. Обнаружено, что, в то время как в объемных монокристаллах проводимость имеет “металлический” характер, в тонких пленках Bi$_2$(Tе$_{0.9}$Se$_{0.1}$)$_3$ проводимость “диэлектрического” типа. Предложено, что при высоких температурах 100–300 K проводимость определяется в основном термоактивированными носителями заряда по протяженным состояниям зоны проводимости с энергией активации примерно равной 15 мэВ. При более низких температурах 2.5–70 K доминирует проводимость, обусловленная прыжками носителей заряда по локализованным состояниям, лежащим в узкой полоске энергий вблизи уровня Ферми. Из данных магнитосопротивления и электропроводности оценены радиус локализации, а также плотность локализованных состояний и средняя длина прыжка носителей заряда.
Поступила в редакцию: 18.06.2012 Принята в печать: 25.06.2012
Образец цитирования:
Н. А. Абдуллаев, Н. М. Абдуллаев, Х. В. Алигулиева, А. М. Керимова, К. М. Мустафаева, И. Т. Мамедова, Н. Т. Мамедов, С. А. Немов, П. О. Буланчук, “Механизм переноса заряда в тонких пленках твердых растворов Bi$_2$(Tе$_{0.9}$Se$_{0.1}$)$_3$”, Физика и техника полупроводников, 47:5 (2013), 586–590; Semiconductors, 47:5 (2013), 602–605
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/phts7891 https://www.mathnet.ru/rus/phts/v47/i5/p586
|
|