|
|
Физика и техника полупроводников, 2013, том 47, выпуск 7, страницы 997–1001
(Mi phts7976)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 25 научных статьях (всего в 25 статьях)
Изготовление, обработка, тестирование материалов и структур
Свойства тонких пленок Sb$_2$S$_3$ и Sb$_2$Sе$_3$, полученных методом импульсной лазерной абляции
И. С. Виртab, И. А. Рудыйc, И. В. Курилоc, И. Е. Лопатинскийc, Л. Ф. Линникd, В. В. Тетёркинd, П. Потераb, Г. Лукаe a Дрогобычский государственный педагогический университет им. И. Франко
b Жешувский университет,
Жешув, Республика Польша
c Национальный университет ``Львовская политехника''
d Институт физики полупроводников им. В. Е. Лашкарева НАН Украины, г. Киев
e Институт физики Польской академии наук,
Варшава, Республика Польша
Аннотация:
Исследованы свойства тонких пленок Sb$_2$S$_3$ и Sb$_2$Sе$_3$ переменной толщины, осажденных на подложки Al$_2$O$_3$, Si и KCl при помощи метода импульсной лазерной абляции. Образцы получены при температуре подложек 180$^\circ$C в вакууме 10$^{-5}$ мм рт. ст. Толщина пленок составляла 40–1500 нм. Структура объемного материала мишеней и пленок исследована методами рентгеновской дифрактометрии и дифракции электронов высоких энергий на просвет соответственно. Электрические свойства пленок исследованы в температурном интервале 253–310 K. Показано, что пленки характеризуются полупроводниковыми свойствами. Структурные особенности пленок определяют их оптические параметры.
Поступила в редакцию: 01.10.2012 Принята в печать: 20.10.2012
Образец цитирования:
И. С. Вирт, И. А. Рудый, И. В. Курило, И. Е. Лопатинский, Л. Ф. Линник, В. В. Тетёркин, П. Потера, Г. Лука, “Свойства тонких пленок Sb$_2$S$_3$ и Sb$_2$Sе$_3$, полученных методом импульсной лазерной абляции”, Физика и техника полупроводников, 47:7 (2013), 997–1001; Semiconductors, 47:7 (2013), 1003–1007
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/phts7976 https://www.mathnet.ru/rus/phts/v47/i7/p997
|
|