|
|
Физика и техника полупроводников, 2013, том 47, выпуск 8, страницы 1137–1143
(Mi phts7999)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 2 научных статьях (всего в 2 статьях)
Изготовление, обработка, тестирование материалов и структур
Влияние отжига в аргоне на свойства пленок оксида галлия, полученных термическим напылением
В. М. Калыгина, В. В. Вишникина, А. Н. Зарубин, В. А. Новиков, Ю. С. Петрова, О. П. Толбанов, А. В. Тяжев, С. Ю. Цупий, Т. М. Яскевич Сибирский физико-технический институт им. акад. В. Д. Кузнецова при Томском государственном университете
Аннотация:
Исследовано влияние температуры отжига на вольт-амперные, вольт-фарадные, вольт-сименсные характеристики и прозрачность пленок оксида галлия. Пленки получали термическим испарением порошка Ga$_2$O$_3$ с осаждением на пластины $n$-GaAs. Показано, что аморфные после напыления пленки кристаллизуются в результате отжига при температурах $T_{\mathrm{an}}\ge$ 800$^\circ$C. Электрические характеристики и фотоотклик образцов V/Ni–GaAs–Ga$_x$O$_y$–V/Ni при воздействии излучением видимого диапазона зависят от структуры и фазового состава пленок оксида галлия.
Поступила в редакцию: 20.12.2012 Принята в печать: 10.01.2013
Образец цитирования:
В. М. Калыгина, В. В. Вишникина, А. Н. Зарубин, В. А. Новиков, Ю. С. Петрова, О. П. Толбанов, А. В. Тяжев, С. Ю. Цупий, Т. М. Яскевич, “Влияние отжига в аргоне на свойства пленок оксида галлия, полученных термическим напылением”, Физика и техника полупроводников, 47:8 (2013), 1137–1143; Semiconductors, 47:8 (2013), 1130–1136
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/phts7999 https://www.mathnet.ru/rus/phts/v47/i8/p1137
|
|