Физика и техника полупроводников
RUS  ENG    ЖУРНАЛЫ   ПЕРСОНАЛИИ   ОРГАНИЗАЦИИ   КОНФЕРЕНЦИИ   СЕМИНАРЫ   ВИДЕОТЕКА   ПАКЕТ AMSBIB  
Общая информация
Последний выпуск
Архив
Правила для авторов

Поиск публикаций
Поиск ссылок

RSS
Последний выпуск
Текущие выпуски
Архивные выпуски
Что такое RSS



Физика и техника полупроводников:
Год:
Том:
Выпуск:
Страница:
Найти






Персональный вход:
Логин:
Пароль:
Запомнить пароль
Войти
Забыли пароль?
Регистрация


Физика и техника полупроводников, 2013, том 47, выпуск 8, страницы 1137–1143 (Mi phts7999)  

Эта публикация цитируется в 2 научных статьях (всего в 2 статьях)

Изготовление, обработка, тестирование материалов и структур

Влияние отжига в аргоне на свойства пленок оксида галлия, полученных термическим напылением

В. М. Калыгина, В. В. Вишникина, А. Н. Зарубин, В. А. Новиков, Ю. С. Петрова, О. П. Толбанов, А. В. Тяжев, С. Ю. Цупий, Т. М. Яскевич

Сибирский физико-технический институт им. акад. В. Д. Кузнецова при Томском государственном университете
Аннотация: Исследовано влияние температуры отжига на вольт-амперные, вольт-фарадные, вольт-сименсные характеристики и прозрачность пленок оксида галлия. Пленки получали термическим испарением порошка Ga$_2$O$_3$ с осаждением на пластины $n$-GaAs. Показано, что аморфные после напыления пленки кристаллизуются в результате отжига при температурах $T_{\mathrm{an}}\ge$ 800$^\circ$C. Электрические характеристики и фотоотклик образцов V/Ni–GaAs–Ga$_x$O$_y$–V/Ni при воздействии излучением видимого диапазона зависят от структуры и фазового состава пленок оксида галлия.
Поступила в редакцию: 20.12.2012
Принята в печать: 10.01.2013
Англоязычная версия:
Semiconductors, 2013, Volume 47, Issue 8, Pages 1130–1136
DOI: https://doi.org/10.1134/S1063782613080071
Реферативные базы данных:
Тип публикации: Статья
Образец цитирования: В. М. Калыгина, В. В. Вишникина, А. Н. Зарубин, В. А. Новиков, Ю. С. Петрова, О. П. Толбанов, А. В. Тяжев, С. Ю. Цупий, Т. М. Яскевич, “Влияние отжига в аргоне на свойства пленок оксида галлия, полученных термическим напылением”, Физика и техника полупроводников, 47:8 (2013), 1137–1143; Semiconductors, 47:8 (2013), 1130–1136
Цитирование в формате AMSBIB
\RBibitem{KalVisZar13}
\by В.~М.~Калыгина, В.~В.~Вишникина, А.~Н.~Зарубин, В.~А.~Новиков, Ю.~С.~Петрова, О.~П.~Толбанов, А.~В.~Тяжев, С.~Ю.~Цупий, Т.~М.~Яскевич
\paper Влияние отжига в аргоне на свойства пленок оксида галлия, полученных термическим напылением
\jour Физика и техника полупроводников
\yr 2013
\vol 47
\issue 8
\pages 1137--1143
\mathnet{http://mi.mathnet.ru/phts7999}
\elib{https://elibrary.ru/item.asp?id=20319542}
\transl
\jour Semiconductors
\yr 2013
\vol 47
\issue 8
\pages 1130--1136
\crossref{https://doi.org/10.1134/S1063782613080071}
Образцы ссылок на эту страницу:
  • https://www.mathnet.ru/rus/phts7999
  • https://www.mathnet.ru/rus/phts/v47/i8/p1137
  • Эта публикация цитируется в следующих 2 статьяx:
    Citing articles in Google Scholar: Russian citations, English citations
    Related articles in Google Scholar: Russian articles, English articles
    Физика и техника полупроводников Физика и техника полупроводников
     
      Обратная связь:
     Пользовательское соглашение  Регистрация посетителей портала  Логотипы © Математический институт им. В. А. Стеклова РАН, 2025