|
|
Физика и техника полупроводников, 2013, том 47, выпуск 9, страницы 1276–1278
(Mi phts8023)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 3 научных статьях (всего в 3 статьях)
Изготовление, обработка, тестирование материалов и структур
Свойства пленок кремния, выращенных при разных давлениях в плазмообразующей системе
Д. М. Митинab, А. А. Сердобинцевab a Саратовский государственный университет им. Н. Г. Чернышевского
b Саратовский филиал Института радиотехники и электроники им. В. А. Котельникова РАН
Аннотация:
Изучено влияние давления рабочего газа на свойства тонких пленок кремния, синтезированных методом магнетронного распыления на постоянном токе. Пленки, полученные при более низких давлениях, отличаются меньшей шероховатостью и меньшим удельным сопротивлением. Качественно это можно объяснить большей длиной свободного пробега частиц в потоке осаждения при меньших давлениях.
Поступила в редакцию: 29.11.2012 Принята в печать: 10.12.2012
Образец цитирования:
Д. М. Митин, А. А. Сердобинцев, “Свойства пленок кремния, выращенных при разных давлениях в плазмообразующей системе”, Физика и техника полупроводников, 47:9 (2013), 1276–1278; Semiconductors, 46:9 (2013), 1264–1266
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/phts8023 https://www.mathnet.ru/rus/phts/v47/i9/p1276
|
|