|
|
Физика и техника полупроводников, 2013, том 47, выпуск 10, страницы 1421–1424
(Mi phts8051)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 15 научных статьях (всего в 15 статьях)
Изготовление, обработка, тестирование материалов и структур
Оптические свойства пленок ITO, полученных высокочастотным магнетронным напылением с сопутствующей ионной обработкой
П. Н. Крылов, Р. М. Закирова, И. В. Федотова Удмуртский государственный университет,
426034 Ижевск, Россия
Аннотация:
Представлено изменение свойств пленок ITO (indium tin oxide), полученных методом реактивного высокочастотного напыления с одновременной ионной обработкой. Пленки ITO имеют в оптическом диапазоне 450–1100 нм пропускание 80%, ширину запрещенной зоны 3.50–3.60 эВ, показатель преломления 1.97–2.06. Все характеристики пленок зависят от тока ионной обработки. Ионная обработка в процессе напыления уменьшает удельное сопротивление пленок ITO, минимальное значение сопротивления составляет 2 $\cdot$ 10$^{-3}$ Ом $\cdot$ см. Обнаружена деградация пленок с высоким удельным сопротивлением при хранении на воздухе.
Поступила в редакцию: 28.01.2013 Принята в печать: 04.02.2013
Образец цитирования:
П. Н. Крылов, Р. М. Закирова, И. В. Федотова, “Оптические свойства пленок ITO, полученных высокочастотным магнетронным напылением с сопутствующей ионной обработкой”, Физика и техника полупроводников, 47:10 (2013), 1421–1424; Semiconductors, 47:10 (2013), 1412–1415
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/phts8051 https://www.mathnet.ru/rus/phts/v47/i10/p1421
|
|