|
|
Физика и техника полупроводников, 2013, том 47, выпуск 11, страницы 1472–1475
(Mi phts8061)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 3 научных статьях (всего в 3 статьях)
Симпозиум "Нанофизика и Наноэлектроника" , Нижний Новгород, март 2013 г.
Кинетика релаксации примесной фотопроводимости в $p$-Si : B с различным уровнем легирования и степенью компенсации в сильных электрических полях
С. В. Морозовab, В. В. Румянцевab, К. Е. Кудрявцевa, В. И. Гавриленкоab, Д. В. Козловab a Федеральное государственное бюджетное учреждение науки
Институт физики микроструктур Российской академии наук,
603950 Нижний Новгород, Россия
b Нижегородский государственный университет им. Н. И. Лобачевского
Аннотация:
Исследуется релаксация примесной фотопроводимости в $p$-Si : B при импульсном оптическом возбуждении узкополосным перестраиваемым источником излучения в “греющих” (10–500 В/см) электрических полях. Обнаружено изменение характера зависимости времени релаксации от электрического поля при $E>$ 75 В/см за счет подключения процессов релаксации с испусканием оптического фонона. Зависимость темпов релаксации носителей от интенсивности и длины волны возбуждающего излучения указывает также на наличие долгоживущего возбужденного состояния, играющего роль уровня прилипания при релаксации носителей.
Поступила в редакцию: 22.04.2013 Принята в печать: 30.04.2013
Образец цитирования:
С. В. Морозов, В. В. Румянцев, К. Е. Кудрявцев, В. И. Гавриленко, Д. В. Козлов, “Кинетика релаксации примесной фотопроводимости в $p$-Si : B с различным уровнем легирования и степенью компенсации в сильных электрических полях”, Физика и техника полупроводников, 47:11 (2013), 1472–1475; Semiconductors, 47:11 (2013), 1461–1464
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/phts8061 https://www.mathnet.ru/rus/phts/v47/i11/p1472
|
|