|
|
Физика и техника полупроводников, 2012, том 46, выпуск 5, страницы 641–643
(Mi phts8235)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 2 научных статьях (всего в 2 статьях)
Поверхность, границы раздела, тонкие пленки
Дальнодействующее влияние облучения кремния светом на фотоэдс барьера Шоттки
Д. И. Тетельбаум, С. В. Тихов, Е. В. Курильчик, Ю. А. Менделева Научно-исследовательский физико-технический институт Нижегородского государственного университета им. Н.И. Лобачевского, 603950 Нижний Новгород, Россия
Аннотация:
Установлено, что в результате облучения светом (со стороны базы) образца кремния с барьером Шоттки происходит уменьшение фотоэдс барьера. Величина фотоэдс восстанавливается приблизительно через 0.5 ч после облучения. Изменения фотоэдс при облучении сопоставляются с поведением микротвердости кремния и интерпретируются на основе представления о генерации точечных дефектов в эффекте дальнодействия.
Поступила в редакцию: 15.11.2011 Принята в печать: 21.11.2011
Образец цитирования:
Д. И. Тетельбаум, С. В. Тихов, Е. В. Курильчик, Ю. А. Менделева, “Дальнодействующее влияние облучения кремния светом на фотоэдс барьера Шоттки”, Физика и техника полупроводников, 46:5 (2012), 641–643; Semiconductors, 46:5 (2012), 622–624
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/phts8235 https://www.mathnet.ru/rus/phts/v46/i5/p641
|
|