|
|
Физика и техника полупроводников, 2012, том 46, выпуск 7, страницы 922–924
(Mi phts8282)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 4 научных статьях (всего в 4 статьях)
Электронные свойства полупроводников
Влияние щелочных металлов на электронные свойства межзеренных границ на поверхности поликристаллического кремния
Л. О. Олимов Андижанский государственный университет им. З.М. Бабура,
710000 Андижан, Узбекистан
Аннотация:
Экспериментально изучено влияние щелочных металлов на дрейф носителей заряда межзеренных границ на поверхности поликристаллического кремния. Полученные результаты показывают, что увеличение концентрации легирующих примесей в процессе диффузии, десорбции, а также адсорбции щелочных металлов вдоль межзеренных границ приводит к росту потенциального барьера.
Поступила в редакцию: 19.09.2011 Принята в печать: 01.12.2011
Образец цитирования:
Л. О. Олимов, “Влияние щелочных металлов на электронные свойства межзеренных границ на поверхности поликристаллического кремния”, Физика и техника полупроводников, 46:7 (2012), 922–924; Semiconductors, 46:7 (2012), 898–900
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/phts8282 https://www.mathnet.ru/rus/phts/v46/i7/p922
|
|