|
|
Физика и техника полупроводников, 2012, том 46, выпуск 11, страницы 1414–1418
(Mi phts8367)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 13 научных статьях (всего в 13 статьях)
XVI симпозиум "Нанофизика и наноэлектроника", Нижний Новгород, 12-16 марта 2012 г.
Особенности релаксации примесной фотопроводимости в кремнии, легированном бором
В. В. Румянцев, С. В. Морозов, К. Е. Кудрявцев, В. И. Гавриленко, Д. В. Козлов Институт физики микроструктур РАН, 603950 Нижний Новгород, Россия
Аннотация:
Проведен цикл исследований по изучению релаксации примесной фотопроводимости в Si:B при импульсном оптическом возбуждении узкополосным перестраиваемым источником излучения в слабых и “греющих” (10–500 В/см) электрических полях. Показано, что зависимость времени захвата носителей в зоне от приложенного электрического поля является немонотонной и в больших полях ($>$ 75 В/см) время захвата уменьшается с ростом поля, что связывается с подключением процессов релаксации с испусканием оптического фонона внутри зоны. Исследована зависимость темпов релаксации носителей от длины волны возбуждающего излучения, и обнаружено уменьшение времени захвата носителей в зоне в окрестности резонансов Брейта–Вигнера–Фано, обусловленное прямым захватом на примесь с испусканием оптического фонона.
Поступила в редакцию: 25.04.2012 Принята в печать: 25.04.2012
Образец цитирования:
В. В. Румянцев, С. В. Морозов, К. Е. Кудрявцев, В. И. Гавриленко, Д. В. Козлов, “Особенности релаксации примесной фотопроводимости в кремнии, легированном бором”, Физика и техника полупроводников, 46:11 (2012), 1414–1418; Semiconductors, 46:11 (2012), 1387–1391
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/phts8367 https://www.mathnet.ru/rus/phts/v46/i11/p1414
|
|