Физика и техника полупроводников
RUS  ENG    ЖУРНАЛЫ   ПЕРСОНАЛИИ   ОРГАНИЗАЦИИ   КОНФЕРЕНЦИИ   СЕМИНАРЫ   ВИДЕОТЕКА   ПАКЕТ AMSBIB  
Общая информация
Последний выпуск
Архив
Правила для авторов

Поиск публикаций
Поиск ссылок

RSS
Последний выпуск
Текущие выпуски
Архивные выпуски
Что такое RSS



Физика и техника полупроводников:
Год:
Том:
Выпуск:
Страница:
Найти






Персональный вход:
Логин:
Пароль:
Запомнить пароль
Войти
Забыли пароль?
Регистрация


Физика и техника полупроводников, 2012, том 46, выпуск 11, страницы 1414–1418 (Mi phts8367)  

Эта публикация цитируется в 13 научных статьях (всего в 13 статьях)

XVI симпозиум "Нанофизика и наноэлектроника", Нижний Новгород, 12-16 марта 2012 г.

Особенности релаксации примесной фотопроводимости в кремнии, легированном бором

В. В. Румянцев, С. В. Морозов, К. Е. Кудрявцев, В. И. Гавриленко, Д. В. Козлов

Институт физики микроструктур РАН, 603950 Нижний Новгород, Россия
Аннотация: Проведен цикл исследований по изучению релаксации примесной фотопроводимости в Si:B при импульсном оптическом возбуждении узкополосным перестраиваемым источником излучения в слабых и “греющих” (10–500 В/см) электрических полях. Показано, что зависимость времени захвата носителей в зоне от приложенного электрического поля является немонотонной и в больших полях ($>$ 75 В/см) время захвата уменьшается с ростом поля, что связывается с подключением процессов релаксации с испусканием оптического фонона внутри зоны. Исследована зависимость темпов релаксации носителей от длины волны возбуждающего излучения, и обнаружено уменьшение времени захвата носителей в зоне в окрестности резонансов Брейта–Вигнера–Фано, обусловленное прямым захватом на примесь с испусканием оптического фонона.
Поступила в редакцию: 25.04.2012
Принята в печать: 25.04.2012
Англоязычная версия:
Semiconductors, 2012, Volume 46, Issue 11, Pages 1387–1391
DOI: https://doi.org/10.1134/S1063782612110188
Реферативные базы данных:
Тип публикации: Статья
Образец цитирования: В. В. Румянцев, С. В. Морозов, К. Е. Кудрявцев, В. И. Гавриленко, Д. В. Козлов, “Особенности релаксации примесной фотопроводимости в кремнии, легированном бором”, Физика и техника полупроводников, 46:11 (2012), 1414–1418; Semiconductors, 46:11 (2012), 1387–1391
Цитирование в формате AMSBIB
\RBibitem{RumMorKud12}
\by В.~В.~Румянцев, С.~В.~Морозов, К.~Е.~Кудрявцев, В.~И.~Гавриленко, Д.~В.~Козлов
\paper Особенности релаксации примесной фотопроводимости в кремнии, легированном бором
\jour Физика и техника полупроводников
\yr 2012
\vol 46
\issue 11
\pages 1414--1418
\mathnet{http://mi.mathnet.ru/phts8367}
\elib{https://elibrary.ru/item.asp?id=20319290}
\transl
\jour Semiconductors
\yr 2012
\vol 46
\issue 11
\pages 1387--1391
\crossref{https://doi.org/10.1134/S1063782612110188}
Образцы ссылок на эту страницу:
  • https://www.mathnet.ru/rus/phts8367
  • https://www.mathnet.ru/rus/phts/v46/i11/p1414
  • Эта публикация цитируется в следующих 13 статьяx:
    Citing articles in Google Scholar: Russian citations, English citations
    Related articles in Google Scholar: Russian articles, English articles
    Физика и техника полупроводников Физика и техника полупроводников
     
      Обратная связь:
     Пользовательское соглашение  Регистрация посетителей портала  Логотипы © Математический институт им. В. А. Стеклова РАН, 2025