|
Эта публикация цитируется в 2 научных статьях (всего в 2 статьях)
Наноструктурирование при наклонном напылении алюминия
О. С. Трушинa, А. А. Поповa, А. Н. Пестоваa, Л. А. Мазалецкийa, А. А. Акуловb a Ярославский филиал Физико-технологического института им. К.А. Валиева РАН, Ярославль, Россия
b Ярославский государственный университет им. П.Г. Демидова
Аннотация:
Экспериментально обнаружено формирование регулярных массивов наноколонн с высоким аспектным отношением (длина/поперечный размер) в процессе роста тонких пленок Al при наклонном напылении на кремниевую подложку методом электронно-лучевого испарения. Установлено, что оптимальные условия для наноструктурирования реализуются при углах падения испаряемого материала на подложку более 80$^\circ$ (скользящее напыление).
Ключевые слова:
пленки алюминия, электронно-лучевое испарение, напыление под углом, эффект затенения, наноструктурирование.
Поступила в редакцию: 01.03.2021 Исправленный вариант: 22.03.2021 Принята в печать: 23.03.2021
Образец цитирования:
О. С. Трушин, А. А. Попов, А. Н. Пестова, Л. А. Мазалецкий, А. А. Акулов, “Наноструктурирование при наклонном напылении алюминия”, Письма в ЖТФ, 47:12 (2021), 31–33; Tech. Phys. Lett., 47:8 (2021), 617–619
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/pjtf4760 https://www.mathnet.ru/rus/pjtf/v47/i12/p31
|
|