|
|
Письма в Журнал технической физики, 2016, том 42, выпуск 4, страницы 90–95
(Mi pjtf6508)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 2 научных статьях (всего в 2 статьях)
Особенности растворения тонкой пленки золота в силикатном стекле при электронном облучении
В. С. Бруновa, О. А. Подсвировb, М. А. Просниковc, А. И. Сидоровad a Санкт-Петербургский национальный исследовательский университет информационных технологий, механики и оптики
b Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого
c Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
d Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет «ЛЭТИ» им. В. И. Ульянова (Ленина)
Аннотация:
Экспериментально показано, что в результате облучения силикатного стекла с тонкой пленкой золота на поверхности электронами с энергией 35 keV и дозой 50–65 mC/cm$^{2}$ происходит частичное растворение пленки золота в стекле. Последующая термообработка выше температуры стеклования приводит к формированию пленки золота и золотых наночастиц под поверхностью стекла. Причиной возникновения данного эффекта является формирование отрицательно заряженной области под поверхностью стекла, приводящей к полевой миграции ионов золота в объем стекла.
Поступила в редакцию: 08.04.2015
Образец цитирования:
В. С. Брунов, О. А. Подсвиров, М. А. Просников, А. И. Сидоров, “Особенности растворения тонкой пленки золота в силикатном стекле при электронном облучении”, Письма в ЖТФ, 42:4 (2016), 90–95; Tech. Phys. Lett., 42:2 (2016), 212–214
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/pjtf6508 https://www.mathnet.ru/rus/pjtf/v42/i4/p90
|
|