|
Исследование квантовых ям InP/GaP, полученных методом газофазной эпитаксии
А. И. Барановab, А. В. Уваровab, А. А. Максимоваab, Е. А. Вячеславоваab, Н. А. Калюжныйc, С. А. Минтаировc, Р. А. Салийc, Г. Е. Яковлевb, В. И. Зубковb, А. С. Гудовскихab a Санкт-Петербургский национальный исследовательский академический университет имени Ж. И. Алфёрова
Российской академии наук, Санкт-Петербург, Россия
b Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет «ЛЭТИ» им. В. И. Ульянова (Ленина), Санкт-Петербург, Россия
c Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, Санкт-Петербург, Россия
Аннотация:
Изучалась структура с одиночной квантовой ямой GaP/InP/GaP толщиной 5 nm, выращенная методом газофазной эпитаксии на подложке $n$-GaP. Методом вольт-фарадных характеристик на изготовленных диодах Шоттки и методом электрохимического вольт-фарадного профилирования зарегистрирована аккумуляция электронов в квантово-размерном слое InP. Данные, полученные с помощью спектроскопии полной проводимости и нестационарной спектроскопии глубоких уровней, показали, что формирование квантовой ямы приводит к повышенному образованию дефектов в верхних слоях GaP c энергиями 0.21, 0.30 и 0.93 eV ниже дна зоны проводимости.
Ключевые слова:
квантовая яма, вольт-фарадное профилирование, электрохимическое профилирование.
Поступила в редакцию: 25.10.2022 Исправленный вариант: 10.01.2023 Принята в печать: 10.01.2023
Образец цитирования:
А. И. Баранов, А. В. Уваров, А. А. Максимова, Е. А. Вячеславова, Н. А. Калюжный, С. А. Минтаиров, Р. А. Салий, Г. Е. Яковлев, В. И. Зубков, А. С. Гудовских, “Исследование квантовых ям InP/GaP, полученных методом газофазной эпитаксии”, Письма в ЖТФ, 49:6 (2023), 16–20
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/pjtf6938 https://www.mathnet.ru/rus/pjtf/v49/i6/p16
|
|