|
Высокоэффективные GaInP/GaAs-фотопреобразователи лазерной линии 600 nm
С. А. Минтаиров, А. В. Малевская, М. А. Минтаиров, М. В. Нахимович, Р. А. Салий, М. З. Шварц, Н. А. Калюжный Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, Санкт-Петербург, Россия
Аннотация:
Изготовлены оптимизированные фотопреобразователи на основе гетероструктур GaInP/GaAs, выращенных методом металлоорганической газофазной эпитаксии, для работы с лазерным излучением высокой мощности зелено-красного спектрального диапазона. Для формирования лицевой контактной сетки приборов исследованы контактные системы Au(Ge)/Ni/Au и Pd/Ge/Au. В результате фотопреобразователь лазерной линии с длиной волны 600 nm с Pd/Ge/Au-контактом демонстрировал КПД более 50% вплоть до плотности мощности падающего излучения 30 W/cm$^2$ с максимальным значением 54.4% при 7 W/cm$^2$.
Ключевые слова:
фотопреобразователь, лазерное излучение, металлоорганическая газофазная эпитаксия (МОСГФЭ), КПД, спектральная чувствительность.
Поступила в редакцию: 09.12.2022 Исправленный вариант: 11.01.2023 Принята в печать: 11.01.2023
Образец цитирования:
С. А. Минтаиров, А. В. Малевская, М. А. Минтаиров, М. В. Нахимович, Р. А. Салий, М. З. Шварц, Н. А. Калюжный, “Высокоэффективные GaInP/GaAs-фотопреобразователи лазерной линии 600 nm”, Письма в ЖТФ, 49:6 (2023), 32–34
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/pjtf6942 https://www.mathnet.ru/rus/pjtf/v49/i6/p32
|
|