|
Исследование воздействия атомов H, N и O на квазидвумерный дисульфид молибдена
Д. В. Лопаевab, Д. Е. Мележенкоa, А. И. Зотовичa, Е. Н. Воронинаab a Московский государственный университет имени М. В. Ломоносова, Научно-исследовательский институт ядерной физики им. Д. В. Скобельцына, Москва, Россия
b Физический факультет, Московский государственный университет имени М.В. Ломоносова, Москва, Россия
Аннотация:
Представлены результаты экспериментального исследования воздействия атомов O, N и H на ультратонкие пленки MoS$_2$, демонстрирующие изменение свойств приповерхностного слоя образцов при такой обработке.
Ключевые слова:
квазидвумерные материалы, дисульфид молибдена, плазма, радикалы, ионы, модификация поверхности.
Поступила в редакцию: 02.08.2022 Исправленный вариант: 29.09.2022 Принята в печать: 30.09.2022
Образец цитирования:
Д. В. Лопаев, Д. Е. Мележенко, А. И. Зотович, Е. Н. Воронина, “Исследование воздействия атомов H, N и O на квазидвумерный дисульфид молибдена”, Письма в ЖТФ, 48:22 (2022), 28–32
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/pjtf7445 https://www.mathnet.ru/rus/pjtf/v48/i22/p28
|
|