|
Письма в Журнал технической физики, 2025, том 51, выпуск 5, страницы 57–60 DOI: https://doi.org/10.61011/PJTF.2025.05.59907.20137
(Mi pjtf7514)
|
|
|
|
Рост методом Чохральского полуизолирующих объемных кристаллов $\beta$-Ga$_2$O$_3$, легированных железом, с удельным сопротивлением 160 G$\Omega$ $\cdot$ cm
Д. А. Бауманa, Д. Ю. Пановa, В. А. Спиридоновa, П. А. Богдановa, А. Ю. Ивановa, В. В. Лундинb, Е. Ю. Лундинаc, А. Ф. Цацульниковbd, А. Е. Романовab, П. Н. Брунковb a Университет ИТМО, Санкт-Петербург, Россия
b Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, Санкт-Петербург, Россия
c ООО "Монолюм", Санкт-Петербург, Россия
d Научно-технологический центр микроэлектроники и субмикронных гетероструктур РАН, Санкт-Петербург, Россия
DOI:
https://doi.org/10.61011/PJTF.2025.05.59907.20137
Аннотация:
Методом Чохральского выращены объемные кристаллы оксида галлия $\beta$-Ga$_2$O$_3$, легированные железом. Анализ спектров рентгеновской дифракции подтвердил присутствие только $\beta$-фазы и высокое кристаллическое качество. Измеренное удельное сопротивление составило 160 G$\Omega$ $\cdot$ cm.
Ключевые слова:
объемные кристаллы, оксид галлия, полуизолирующие подложки.
Поступила в редакцию: 02.10.2024 Исправленный вариант: 05.11.2024 Принята в печать: 08.11.2024
Образец цитирования:
Д. А. Бауман, Д. Ю. Панов, В. А. Спиридонов, П. А. Богданов, А. Ю. Иванов, В. В. Лундин, Е. Ю. Лундина, А. Ф. Цацульников, А. Е. Романов, П. Н. Брунков, “Рост методом Чохральского полуизолирующих объемных кристаллов $\beta$-Ga$_2$O$_3$, легированных железом, с удельным сопротивлением 160 G$\Omega$ $\cdot$ cm”, Письма в ЖТФ, 51:5 (2025), 57–60
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/pjtf7514 https://www.mathnet.ru/rus/pjtf/v51/i5/p57
|
|