|
|
Письма в Журнал технической физики, 2015, том 41, выпуск 9, страницы 71–79
(Mi pjtf7710)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 6 научных статьях (всего в 6 статьях)
Фотоэлектрические свойства массива аксиальных нитевидных нанокристаллов GaAs/AlGaAs
Р. В. Григорьевa, И. В. Штромabc, Н. Р. Григорьеваa, Б. В. Новиковa, И. П. Сошниковbcde, Ю. Б. Самсоненкоbdc, А. И. Хребтовb, А. Д. Буравлевadc, Г. Э. Цырлинadcf a Научно-исследовательский институт физики им. В. А. Фока Санкт-Петербургского государственного университета
b Санкт-Петербургский Академический университет РАН
c Институт аналитического приборостроения РАН, г. Санкт-Петербург
d Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
e Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет «ЛЭТИ» им. В. И. Ульянова (Ленина)
f Санкт-Петербургский государственный политехнический университет
Аннотация:
Представлены исследования фотоэлектрических свойств массива GaAs/Al$_x$Ga$_{1-x}$As ($x\approx$ 0.3) аксиальных нитевидных нанокристаллов $n$-типа, выращенных с помощью метода молекулярно-пучковой эпитаксии на $p$-типа кремниевой подложке. Выявлена возможность эффективного разделения зарядов в широком спектральном диапазоне (от 450 до 1100 nm), что актуально для создания активного элемента в фотоприемных устройствах и солнечных батареях.
Поступила в редакцию: 04.11.2014
Образец цитирования:
Р. В. Григорьев, И. В. Штром, Н. Р. Григорьева, Б. В. Новиков, И. П. Сошников, Ю. Б. Самсоненко, А. И. Хребтов, А. Д. Буравлев, Г. Э. Цырлин, “Фотоэлектрические свойства массива аксиальных нитевидных нанокристаллов GaAs/AlGaAs”, Письма в ЖТФ, 41:9 (2015), 71–79; Tech. Phys. Lett., 41:5 (2015), 443–447
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/pjtf7710 https://www.mathnet.ru/rus/pjtf/v41/i9/p71
|
|