Подавление рэлей-тейлоровских неустойчивостей в $Z$-пинчах

Эксперименты по исследованию стабильности сжатия $Z$-пинчей проводились при токе 450 kA со временем нарастания 450 ns. Плазменная оболочка пинчей формировалась с помощью испарения материала электродов при горении вакуумной дуги. Для подавления рэлей-тейлоровских (РТ) неустойчивостей использовался режим горения дуги на поверхности одного из электродов высоковольтного промежутка, в котором располагается пинч. В результате свободного истечения плазмы радиальное распределение плотности формировалось таким образом, что концентрация плазмы нарастала от внешней границы по направлению к оси оболочки. Эксперименты показали, что такое начальное радиальное распределение плотности обеспечивает практически полное подавление РТ-неустойчивости.