|
|
Письма в Журнал технической физики, 2015, том 41, выпуск 13, страницы 72–78
(Mi pjtf7767)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 2 научных статьях (всего в 2 статьях)
Волноводный эффект квантовых ям InGaAs в структуре GaAs на подложке Si с буферным слоем Ge
В. Я. Алешкинab, Н. В. Дикареваc, А. А. Дубиновab, Б. Н. Звонковc, К. Е. Кудрявцевab, С. М. Некоркинc, А. В. Новиковab, П. А. Юнинab, Д. В. Юрасовab a Институт физики микроструктур РАН, г. Нижний Новгород
b Нижегородский государственный университет им. Н. И. Лобачевского
c Научно-исследовательский физико-технический институт Нижегородского государственного университета им. Н.И. Лобачевского, г. Нижний Новгород
Аннотация:
Экспериментально исследован волноводный эффект квантовых ям InGaAs в структуре GaAs, выращенной на подложке Si с релаксированным буферным слоем Ge. При достижении величины плотности мощности возбуждения 35 kW/cm$^2$ при температуре жидкого азота наблюдалось несколько линий стимулированного излучения в диапазоне энергий 1350–1360 meV.
Поступила в редакцию: 17.11.2014
Образец цитирования:
В. Я. Алешкин, Н. В. Дикарева, А. А. Дубинов, Б. Н. Звонков, К. Е. Кудрявцев, С. М. Некоркин, А. В. Новиков, П. А. Юнин, Д. В. Юрасов, “Волноводный эффект квантовых ям InGaAs в структуре GaAs на подложке Si с буферным слоем Ge”, Письма в ЖТФ, 41:13 (2015), 72–78; Tech. Phys. Lett., 41:7 (2015), 648–650
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/pjtf7767 https://www.mathnet.ru/rus/pjtf/v41/i13/p72
|
|