|
|
Письма в Журнал технической физики, 2015, том 41, выпуск 14, страницы 16–24
(Mi pjtf7774)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 7 научных статьях (всего в 7 статьях)
Процесс электроформовки и биполярное резистивное переключение в двойной оксидной структуре Si–SiO$_2$–V$_2$O$_5$–Au
В. В. Путролайнен, А. А. Величко, П. П. Борисков, А. Л. Пергамент, Г. Б. Стефанович, Н. А. Кулдин Петрозаводский государственный университет
Аннотация:
Исследовано резистивное переключение с памятью двойной оксидной структуры Si–SiO$_2$–V$_2$O$_5$–Au, полученной методом реактивного магнетронного напыления. Предложена физическая модель, объясняющая формирование переключательной структуры с образованием наноразмерного кремниевого канала в SiO$_2$ и обратимой модуляцией проводимости тонкого оксидно-ванадиевого слоя вблизи границы канала. Проведена оценка радиуса кремниевого канала из результатов расчета на основе уравнения теплопроводности и АСМ-анализа.
Поступила в редакцию: 26.02.2015
Образец цитирования:
В. В. Путролайнен, А. А. Величко, П. П. Борисков, А. Л. Пергамент, Г. Б. Стефанович, Н. А. Кулдин, “Процесс электроформовки и биполярное резистивное переключение в двойной оксидной структуре Si–SiO$_2$–V$_2$O$_5$–Au”, Письма в ЖТФ, 41:14 (2015), 16–24; Tech. Phys. Lett., 41:7 (2015), 672–675
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/pjtf7774 https://www.mathnet.ru/rus/pjtf/v41/i14/p16
|
|