|
|
Письма в Журнал технической физики, 2014, том 40, выпуск 19, страницы 18–26
(Mi pjtf8271)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 10 научных статьях (всего в 10 статьях)
Процесс формовки в элементах резистивной памяти на основе структур металл–диэлектрик–полупроводник
С. В. Тиховa, О. Н. Горшковb, И. Н. Антоновb, А. П. Касаткинa, М. Н. Коряжкинаa a Нижегородский государственный университет им. Н. И. Лобачевского
b Научно-исследовательский физико-технический институт Нижегородского государственного университета им. Н.И. Лобачевского, г. Нижний Новгород
Аннотация:
На примере структур металл–диэлектрик–полупроводник на основе GaAs со стабилизированным (оксидом иттрия) диоксидом циркония, проявляющих эффект резистивной памяти, показана возможность контроля происходящих при формовке явлений как в диэлектрике, так и на границе раздела диэлектрик–полупроводник и в полупроводнике путем измерения отклика полупроводника.
Поступила в редакцию: 30.04.2014
Образец цитирования:
С. В. Тихов, О. Н. Горшков, И. Н. Антонов, А. П. Касаткин, М. Н. Коряжкина, “Процесс формовки в элементах резистивной памяти на основе структур металл–диэлектрик–полупроводник”, Письма в ЖТФ, 40:19 (2014), 18–26; Tech. Phys. Lett., 40:10 (2014), 837–840
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/pjtf8271 https://www.mathnet.ru/rus/pjtf/v40/i19/p18
|
|