Письма в Журнал технической физики
RUS  ENG    ЖУРНАЛЫ   ПЕРСОНАЛИИ   ОРГАНИЗАЦИИ   КОНФЕРЕНЦИИ   СЕМИНАРЫ   ВИДЕОТЕКА   ПАКЕТ AMSBIB  
Общая информация
Последний выпуск
Архив
Правила для авторов

Поиск публикаций
Поиск ссылок

RSS
Последний выпуск
Текущие выпуски
Архивные выпуски
Что такое RSS


Письма в ЖТФ:
Год:
Том:
Выпуск:
Страница:
Найти




Персональный вход:
Логин:
Пароль:
Запомнить пароль
Войти
Забыли пароль?
Регистрация

Письма в Журнал технической физики, 2013, том 39, выпуск 3, страницы 11–17 (Mi pjtf8396)  
Эта публикация цитируется в 5 научных статьях (всего в 5 статьях)

Волнообразные микроструктуры, формируемые на границе раздела SiO$_2$/Si при воздействии мощного ионного пучка

В. С. Ковивчакab, Т. В. Пановаab, О. В. Кривозубовab, Н. А. Давлеткильдеевab, Е. В. Князевab

a Омский государственный университет им. Ф. М. Достоевского
b Омский филиал Института физики полупроводников СО РАН
PDF полного текста (2330 kB) Список цитирования (5)
Аннотация: Исследовано образование волнообразных микроструктур на поверхности монокристаллического кремния со слоем собственного оксида различной толщины при воздействии мощного ионного пучка наносекундной длительности. Описаны морфологические особенности возникающих структур в зависимости от толщины слоя оксида и плотности тока ионного пучка. Рассмотрены возможные механизмы их формирования.
Поступила в редакцию: 01.08.2012
Англоязычная версия:
Technical Physics Letters, 2013, Volume 39, Issue 2, Pages 147–149
DOI: https://doi.org/10.1134/S1063785013020090
Реферативные базы данных:
Тип публикации: Статья
Образец цитирования: В. С. Ковивчак, Т. В. Панова, О. В. Кривозубов, Н. А. Давлеткильдеев, Е. В. Князев, “Волнообразные микроструктуры, формируемые на границе раздела SiO$_2$/Si при воздействии мощного ионного пучка”, Письма в ЖТФ, 39:3 (2013), 11–17; Tech. Phys. Lett., 39:2 (2013), 147–149
Цитирование в формате AMSBIB
\RBibitem{KovPanKri13}
\by В.~С.~Ковивчак, Т.~В.~Панова, О.~В.~Кривозубов, Н.~А.~Давлеткильдеев, Е.~В.~Князев
\paper Волнообразные микроструктуры, формируемые на границе раздела SiO$_2$/Si при воздействии мощного ионного пучка
\jour Письма в ЖТФ
\yr 2013
\vol 39
\issue 3
\pages 11--17
\mathnet{http://mi.mathnet.ru/pjtf8396}
\elib{https://elibrary.ru/item.asp?id=20328094}
\transl
\jour Tech. Phys. Lett.
\yr 2013
\vol 39
\issue 2
\pages 147--149
\crossref{https://doi.org/10.1134/S1063785013020090}
Образцы ссылок на эту страницу:
  • https://www.mathnet.ru/rus/pjtf8396
  • https://www.mathnet.ru/rus/pjtf/v39/i3/p11
    • Эта публикация цитируется в следующих 5 статьяx:
    Citing articles in Google Scholar: Russian citations, English citations
    Related articles in Google Scholar: Russian articles, English articles
    		Письма в Журнал технической физики Письма в Журнал технической физики
     
      Обратная связь:
    		  Пользовательское соглашение  Регистрация посетителей портала  Логотипы © Математический институт им. В. А. Стеклова РАН, 2025